[发明专利]真空镀膜件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜件及其制造方法制造。

背景技术

真空镀膜技术是一个环保的成膜技术。以真空镀膜的方式所形成的膜层具有高硬度、高耐磨性、良好的化学稳定性、与基体结合牢固以及亮丽的金属外观等优点，因此真空镀膜在装饰性表面处理领域的应用越来越广。但真空镀膜技术也具有一定的局限性，在制造纯黑色膜层过程中容易出现异色、黑中带蓝或黑中带红等现象，如此严重影响了黑色膜层的美观。目前已见报道的黑色膜层L值(即明度值)最佳只能达到35左右，为了得到更纯的黑色继续降低膜层的L值存在较大难度。因此，开发一种L值较低的黑色镀膜件实为必要。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种L值较低的黑色的真空镀膜件。

另外，还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。

一种真空镀膜件，包括一基体及一形成于基体上的颜色层，该颜色层为一碳氧化钛铝层，该颜色层呈现的色度区于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于28至32之间，a^*坐标介于-1至1之间，b^*坐标介于-1至1之间。

一种真空镀膜件的制造方法，包括以下步骤：

提供一基体；

使用一钛靶及一铝靶，通入流量为15～20sccm的氧气及流量为15～20sccm的乙炔气体，通过磁控溅射镀膜方法在基体上形成一颜色层，该颜色层为一TiAlOC层，其厚度为0.3～1μm，呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于28至32之间，a^*坐标介于-1至1之间，b^*坐标介于-1至1之间。

相较于现有技术，上述真空镀膜件的制造方法，采用钛靶与铝靶作为靶材，通过对反应气体氮气及乙炔气体的流量控制来改变颜色层的成分，从而使颜色层的L^*坐标介于28至32之间，呈现出纯正的黑色。以该方法所制得的真空镀膜件可呈现出具吸引力的纯黑色的金属外观。

附图说明

图1为本发明较佳实施例的真空镀膜件的剖视示意图。

主要元件符号说明

真空镀膜件    10

基体          11

衬底层        13

颜色层        15

具体实施方式

本发明的真空镀膜件可以为电子装置外壳，也可以为眼镜边框、钟表外壳、金属卫浴件及建筑用件等。

图1所示为本发明较佳实施例的真空镀膜件10，其包括一基体11、一衬底层13及一颜色层15。衬底层13直接与基体11结合，颜色层15形成于衬底层13的表面。

基体11的材质可以为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

衬底层13形成于基体11与颜色层15之间，以增强颜色层15于基体11上的附着力。衬底层13可为一钛层或其它可提供附着效果的涂层。衬底层13的厚度大约为0.01～0.1μm。衬底层13的颜色以不影响颜色层颜色的色调为佳，比如可为银色、白色及灰白色等浅色调。

颜色层15为一碳氧化钛铝(TiAlOC)层。该颜色层15呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于28至32之间，a^*坐标介于-1至1之间，b^*坐标介于-1至1之间，呈现出黑色。该颜色层15的厚度大约为0.3～1μm。

上述真空镀膜件10的制造方法主要包括如下步骤：

提供一基体11，并将基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗，以除去基体11表面的杂质和油污。清洗完毕后烘干备用。所述基体11的材质可以为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

再对基体11的表面进行氩气等离子清洗，进一步去除基体11表面的油污，以改善基体11表面与后续涂层的结合力。对基体11的表面进行氩气等离子清洗的方法包括如下步骤：将基体11放入一中频磁控溅射镀膜机的真空室内的工件架上，抽真空该真空室至真空度为8.0×10^-3pa，以300～600sccm(标准状态毫升/分钟)的流量向真空室内通入纯度为99.999％的氩气，于基体11施加-300～-800V的偏压，对基体11表面进行等离子清洗，清洗时间为5～10min。