[发明专利]化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种新的化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物。

背景技术

用于采用光刻法的半导体微型制造的光致抗蚀剂组合物含有酸生成剂，该酸生成剂包含通过辐照产生酸的化合物。

US 2003/0194639A1公开了一种包含2，6-二异丙基苯胺或氢氧化四丁基铵的光致抗蚀剂组合物。

发明内容

本发明的目的是提供一种新的化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物。

本发明涉及下列内容：

<1>一种由式(C1)表示的化合物：

其中R^c2表示具有至少一个硝基的C6-C10芳族烃基，并且所述芳族烃基可以具有除硝基以外的一个或多个取代基，并且R^c1表示由式(1)表示的基团：

其中R^c4表示氢原子，或表示直链、支链或环状C1-C6脂族烃基，R^c5表示可以具有选自由卤素原子，羟基，巯基(-SH)，氨基和氨基甲酰基(-CONH₂)组成的组中的一个或多个取代基的C1-C30二价烃基，并且所述二价烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-，-CO-，-S-或-NR^c15-代替，其中R^c15表示氢原子或表示直链或支链C1-C4烷基，并且所述二价烃基中的一个或多个-CH＝可以被-N＝代替，并且R^C4和R^C5可以彼此结合以与R^C4和R^C5所结合的氮原子一起形成环，并且R^c3表示由式(3-1)，(3-2)或(3-3)表示的基团：

其中R^c6，R^c7，R^c8，R^c9，R^c10，R^c11，R^c12，R^c13和R^c14各自独立地表示可以具有一个或多个羟基的C1-C30烃基，并且该C1-C30烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-，-CO-，-S-或-NR^c16-代替，其中R^c16表示氢原子或表示直链或支链C1-C4烷基，并且R^c6和R^c7可以彼此结合以与R^c6和R^c7所结合的碳原子一起形成环，并且R^c9和R^c10可以彼此结合以与R^c9所结合的碳原子和R^c10所结合的氧原子一起形成环；

<2>根据<1>的化合物，其中R^c2是硝基苯基；

<3>根据<1>或<2>的化合物，其中R^c3是由式(3-1)表示的基团；

<4>根据<1>至<3>中任一项的化合物，其中R^c1是由式(1-1)或(1-2)表示的基团：