[发明专利]一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法无效
申请号: | 201010247733.7 | 申请日: | 2010-08-06 |
公开(公告)号: | CN102375029A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 李冬梅;周文;刘明;侯成诚;汪幸;闫学锋;谢常青;霍宗亮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01N29/02 | 分类号: | G01N29/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制作 选择性 半导体 薄膜 材料 方法 | ||
技术领域
本发明涉及表面波气体传感器技术领域,特别涉及一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法。
背景技术
NO2是汽车尾气的主要成分,也是火力发电、化工生产过程的主要排放气体。由于具有极强的腐蚀性和生理刺激作用,所以对建筑设施、生产设备及其人类健康造成极大危害。因此,对NO2气体进行及时准确地检测和测量具有十分重要的意义。
目前用于NO2气体检测的方法主要有物理法和化学法,然而这些方法所需要的测量系统和设备通常比较复杂和昂贵,给实际应用带来很大的不便。
发明内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此,本发明的主要目的是提供一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法,以实现对NO2气体的检测。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明提供了一种制作高选择性半导体薄膜材料的方法,该方法包括:
步骤1:将5至15mg的多壁碳纳米管与50至100mg的SnO2均匀混合溶于一定量的甘油;
步骤2:充分搅拌后在60℃下超声振荡两个小时使其充分分散;
步骤3:用10至50μl移液器吸取部分混合溶液滴涂在器件的敏感膜上;
步骤4:将器件放到真空干燥箱,在140℃下干燥两小时去除水分和有机物。
上述方案中,所述基片是石英基片。
上述方案中,所述甘油是作为SnO2和碳纳米管的分散溶剂。
上述方案中,步骤2中所述超声振荡,用于使SnO2与碳纳米管分散性更好。
上述方案中,步骤4中所述将滴涂以后的器件放入真空干燥箱,是用于去除水分和有机物。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出,本发明具有以下有益效果:
本发明提供的这种制作高选择性半导体薄膜材料的方法,通过将SnO2混合碳纳米管作为声表面波NO2气体传感器的敏感膜材料,实现了在室温下检测低浓度的NO2气体。通过掺杂碳纳米管,大大的增加了膜的比表面积,从而提高了敏感膜的灵敏度。所用的是滴涂成膜技术,相比其他磁控溅射,CVD,溶胶凝胶法等成膜技术,滴涂更简单,易操作,低成本,适合大批量生产。
附图说明
图1是本发明提供的制作高选择性半导体薄膜材料的方法流程图;
图2-1至2-3是本发明提供的制作高选择性半导体薄膜材料的工艺流程图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
如图1所示,图1是本发明提供的制作高选择性半导体薄膜材料的方法流程图,该方法是由溶解、超声振荡、滴涂、真空干燥等步骤获得的,其步骤如下:
步骤1:将5至15mg的多壁碳纳米管与50至100mg的二氧化锡均匀混合溶于一定量的甘油;
步骤2:充分搅拌后在60℃下超声振荡两个小时使其充分分散;
步骤3:用10至50μl移液器吸取部分混合溶液滴涂在器件的敏感膜上;
步骤4:将器件放到真空干燥箱,在140℃下干燥两小时去除水分和有机物。
所述的基片是石英基片,其目的在于减小器件受温度影响。
所述的成膜技术是滴涂。相比其他磁控溅射,CVD,溶胶凝胶法等成膜技术,滴涂更简单,易操作,低成本,适合大批量生产。
所述甘油是作为SnO2和碳纳米管的分散溶剂。
所述的混合溶液通过一定的温度超声,目的是让SnO2和碳纳米管分散性更好。
所述的滴涂以后的器件放入真空干燥箱,目的是为了去除水分和有机物。
图2-1至2-3是本发明提供的制作高选择性半导体薄膜材料的工艺流程图。其中,图2-1是基片的示意图;图2-2是将一种SnO2掺杂碳纳米管的混合溶液涂于基片敏感膜示意图,其中圆圈代表水分,三角符号代表有机物;图2-3是将图2-2中所示的敏感膜去除水分和有机物后的示意图。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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