[发明专利]稀土离子掺杂钇铝石榴石激光陶瓷的制备方法有效

专利信息
申请号: 201010234709.X 申请日: 2010-07-23
公开(公告)号: CN101905971A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 刘文斌;张文馨;寇华敏;沈毅强;李江;姜本学;周军;潘裕柏 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C04B35/44 分类号: C04B35/44;C04B35/622
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 稀土 离子 掺杂 石榴石 激光 陶瓷 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种RE:YAG透明陶瓷的制备方法,其特征在于在Y(NO3)3、Al(NO3)3和RE2O3的稀硝酸溶液共沉淀过程中加入0.001-0.5wt%Mg(NO3)2利用前驱体煅烧后,使MgO与Al2O3反应形成镁铝尖晶石,分散在RE:YAG晶界上,抑制晶粒异常长大,包括以下步骤:

(1)将含有结晶水的Al(NO3)3和Y(NO3)3分别溶解在去离子水中,配成Al(NO3)3和Y(NO3)3溶液,采用化学分析的方法,分别标定Al和Y离子的浓度;

(2)将按照稀土离子掺杂钇铝石榴石的通式Y3(1-x)RE3xAl5O12,其中x为0~1,称取RE2O3,将RE2O3溶解在稀HNO3中,配置成RE(NO3)3溶液;

(3)称取MgO溶解在稀硝酸中,配置成Mg(NO3)2溶液;

(4)按照化学剂量配比,混合成均匀的Al、Y、Mg和RE硝酸盐溶液,其中(RE+Y)∶Al的摩尔比为3∶5,混合溶液中Al离子的浓度为0.05~2mol/L。将配置好的NH4HCO3溶液逐滴滴加到上述混合溶液中,调节浆料的pH为弱碱性,浆料陈化后,过滤、洗涤、干燥,且在900-1500℃煅烧,得到RE:YAG纳米粉体;

(5)在煅烧后的RE:YAG粉体中加入TEOS,且与Al2O3磨球和无水乙醇一起放入球磨罐中进行球磨混合,球磨时间2~20h;

(6)磨混合浆料在干燥箱中60~120℃温度下干燥,干燥后的粉体过100~250目筛;

(7)粉体干压成型,再冷等静压,素坯在1650~1850℃真空烧结而成。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于RE2O3氧化物中RE为Nd3+、Yb3+、Er3+、Dy3+、Ho3+、Tm3+、Ge3+、Tb3+或Eu3+

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的NH4HCO3的浓度为0.01mol/L~5mol/L,调节PH值为7.5-8.5。

4.根据权利要求1或3所述的方法,其特征在于所述的NH4HCO3逐滴滴加到硝酸盐的混合溶液中,滴加速度为1~4ml/min。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤4所述的沉淀物在5~30℃陈化2~30h,采用去离子水和无水乙醇对沉淀物进行过滤洗涤。

6.根据权利要求1或5所述的方法,其特征在于所述的洗涤后的沉淀物在干燥箱中60~120℃干燥10~40h,干燥后的粉体过100~250目筛。

7.按权利要求1所述的方法,其特征在于900~1500℃煅烧保温1h~10h,煅烧后粉体的晶粒尺寸为100-200nm。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于TEOS的添加量0.01~5.0wt%,Al2O3磨球的直径为2~100mm。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的陶瓷块体经过平面磨制,抛光样品厚度为0.2-100mm。

10.按权利要求1所述的方法,其特征在于制备的RE:YAG样品在350-1100nm波段的透过率最高达82%以上。

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