[发明专利]奥氏体不锈钢小孔电解抛光方法有效
申请号: | 201010228099.2 | 申请日: | 2010-07-08 |
公开(公告)号: | CN101892511A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 方刚;祝恒阳;张猛 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | C25F3/24 | 分类号: | C25F3/24;C25F7/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 100016 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 奥氏体 不锈钢 小孔 电解 抛光 方法 | ||
1.一种用于电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光溶液,其特征在于,每升所述抛光溶液中含有磷酸1000-1250g,硫酸200-260g,无水乙醇180-240g。
2.如权利要求1所述的抛光溶液,其特征在于,每升所述抛光溶液还包括5-8ml重量百分比浓度为30-40%的羟基乙酸溶液。
3.如权利要求1或2所述的抛光溶液,其特征在于,所述磷酸的重量百分比浓度为85%,所述硫酸的重量百分比浓度为95%,所述无水乙醇的重量百分比浓度为99.5%。
4.一种用于电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,采用抛光液对待抛光工件进行抛光处理,每升所述抛光溶液中含有磷酸1000-1250g,硫酸200-260g,无水乙醇180-240g。
5.如权利要求4所述用于电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,每升所述抛光溶液还包括5-8ml的羟基乙酸溶液。
6.如权利要求4或5所述用于电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,所述抛光方法包括步骤:
S1,将待抛光工件穿过电极针并固定在夹持装置上,形成溶液循环通道,并将其整体浸入抛光溶液中;
S2,连接并开启溶液循环流动设备,使抛光溶液以一定速度循环流动;
S3,夹持装置接电源正极,电极针接电源负极,开启直流电源,调整电压范围进行电解抛光。
7.如权利要求6所述的电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,所述抛光溶液的温度为50-65℃。
8.如权利要求6所述的电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,所述抛光溶液的流速为200-500ml/min。
9.如权利要求6所述的电解抛光奥氏体不锈钢小孔的抛光方法,其特征在于,步骤S3中的电压范围为2.5-4.2V;电流密度为3.5-15A/dm2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创电子股份有限公司,未经北京七星华创电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010228099.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。