[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号: | 201010225290.1 | 申请日: | 2010-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN102333422A | 公开(公告)日: | 2012-01-25 |
| 发明(设计)人: | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;万自成 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号: | H05K5/00 | 分类号: | H05K5/00;H04M1/02;C23C14/35;C23C14/06;B44C5/04;B44F9/10 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 壳体 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制作方法,尤其涉及一种具有古铜色与金属质感的壳体及其制作方法。
背景技术
随着科技的不断进步,手机、个人数字助理(PDA,Personal Digital Assistant)、及计算机等各式电子装置也迅速发展,其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有丰富色彩,传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳,或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色料层。然而,塑料外壳与喷漆外壳不能呈现良好的金属质感。另一方面,由于真空镀膜本身技术较为复杂而不易精密操控,现有技术中于壳体表面形成的金属真空镀膜层的色彩有限,与烤漆、阳极处理等工艺相比,真空镀膜层的颜色不够丰富,严重限制了其在装饰镀膜领域的竞争力。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种具有古铜色及金属质感的壳体。
另外,本发明还提供一种上述壳体的制作方法。
一种壳体,其包括一基体,一结合层以及一色彩层,所述结合层形成于基体的表面,所述色彩层形成于结合层的表面,所述色彩层呈现的色度区域于CIELAB表色系统的L*坐标介于45.39至47.50之间,a*坐标介于13.07至12.42之间,b*坐标介于13.26至18.56之间。
一种壳体的制作方法,其包括如下步骤:
提供一基体,在该基体的表面利用磁控溅射形成一结合层,所述结合层为一钛金属膜,其厚度为0.1~0.2μm。在该结合层的表面利用磁控溅射形成一色彩层,所述色彩层以钛为靶材,控制氮气的流量介于110至150sccm之间,乙炔的总流量介于5至20sccm之间,所述色彩层为一Ti-N-C膜,其厚度为0.2~0.3μm,呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于45.39至47.50之间,a*坐标介于13.07至12.42之间,b*坐标介于13.26至18.56之间。
相较于现有技术,所述壳体的制备方法,在形成色彩层时,通过对反应气体乙炔和氮气流量的设计和对膜层厚度的控制,从而达到使色彩层呈现出古铜色的目的。以该方法所制得的壳体可呈现出具吸引力的古铜色的金属外观,丰富了真空镀膜层的颜色,极大地提高了产品的外观竞争力。
附图说明
图1是本发明较佳实施例的壳体的结构示意图。
图2是本发明较佳实施例制作所述壳体的流程图。
主要元件符号说明
壳体 10
基体 11
结合层 13
色彩层 15
具体实施方式
请参阅图1,本发明一较佳实施例的壳体10可为一手机的壳体。该壳体10包括一基体11、一结合层13及一色彩层15。该结合层13设置于基体11的表面,该色彩层15设置于结合层13的表面。
基体11为不锈钢材质或玻璃材质。
结合层13以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该结合层13为一钛金属膜,其厚度在0.1~0.2μm之间。该结合层13的颜色为不影响色彩层颜色的浅色调,比如可为银色、白色及灰白色等浅色调。
色彩层15为一Ti-N-C膜,其以磁控溅射的方式形成。该色彩层15的厚度在0.2~0.3μm之间。该色彩层15呈现出古铜色,其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于45.39至47.50,a*坐标介于13.07至12.42,b*坐标介于13.26至18.56。
请一并参阅图1与图2,本发明壳体10的制作方法包括以下步骤:
提供一基体11。该基体11可由不锈钢或玻璃制成。
对该基体11进行预处理,该预处理可包括常规的化学除油、除蜡、酸洗、超声波清洗及烘干等步骤。
在基体11的表面形成一结合层13。该结合层13为一钛金属膜,其可采用磁控溅射的方式形成。形成该结合层13的具体操作方法可为:将基体11固定于一磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上,抽真空该镀膜机的腔体至8×10-3Pa,并加热该腔体至120℃左右,通入流量为400~450sccm(标准状态毫升/分钟)的高纯氩气;开启钛靶材的电源,设定功率为8~12kw,设定偏压为-180~-220V,占空比为0~100%,并设置转架的公转转速为2.5~3.5转每分钟(revolution perminute,rpm);沉积所述结合层13。沉积所述结合层13的时间可为20~30分钟。
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