[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号： | 201010225290.1 | 申请日： | 2010-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN102333422A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;万自成 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/00 | 分类号： | H05K5/00;H04M1/02;C23C14/35;C23C14/06;B44C5/04;B44F9/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括一基体，一结合层以及一色彩层，所述结合层形成于基体的表面，所述色彩层形成于结合层的表面，其特征在于：所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于45.39至47.50之间，a*坐标介于13.07至12.42之间，b*坐标介于13.26至18.56之间。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层为一Ti-N-C膜，其厚度为0.2～0.3μm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述结合层为一钛金属膜，厚度为0.1～0.2μm。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体为不锈钢或玻璃。
5.一种壳体制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
在该基体的表面利用磁控溅射形成一结合层，所述结合层为一钛金属膜，其厚度为0.1～0.2μm；
在该结合层的表面利用磁控溅射形成一色彩层，形成所述色彩层以钛为靶材，控制氮气的流量为90-110sccm，乙炔的总流量介于5～20sccm，所述色彩层为一Ti-N-C膜，其厚度为0.2～0.3μm，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于45.39至47.50之间，a*坐标介于13.07至12.42之间，b*坐标介于13.26至18.56之间。
6.如权利要求5所述的壳体制作方法，其特征在于：形成该结合层的工艺参数为：真空度为8×10-3Pa，氩气流量为400～450sccm，功率为8～12kw，偏压为-180～-220V，占空比为0～100％，公转转速为2.5～3.5rpm，靶材为钛靶，镀膜时间为20～30分钟。
7.如权利要求5所述的壳体制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：真空度为8×10-3Pa，氩气流量为400～450sccm，功率为8～12kw，偏压为-250～-0V，占空比为0～50％，公转转速为2.5～3.5rpm，靶材为钛靶，镀膜时间为20～25分钟。
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