[发明专利]一种抑制乙烯裂解装置结焦的复合方法无效
| 申请号: | 201010217522.9 | 申请日: | 2010-07-01 |
| 公开(公告)号: | CN101880544A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
| 发明(设计)人: | 徐宏;王志远;栾小建;周建新;张莉;徐鹏 | 申请(专利权)人: | 华东理工大学 |
| 主分类号: | C10G9/16 | 分类号: | C10G9/16 |
| 代理公司: | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人: | 谈顺法 |
| 地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 抑制 乙烯 裂解 装置 结焦 复合 方法 | ||
1.一种抑制乙烯高温裂解结焦的复合方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)在烃类裂解装置清焦操作完毕后,在1~3个大气压下,将裂解设备预热至600℃~1000℃温度,通入水蒸气,将含有Si和S的化合物作为预处理剂通过载气加入到乙烯裂解炉管进行预处理,其中Si和S摩尔比为(10∶1)~(1∶10),预处理剂在水蒸气中的浓度为10~5000ppm,乙烯裂解装置与预处理剂高温气体接触,发生反应,在裂解管内表面沉积出含SiO2和S的复合涂层,涂层处理时间为1~8小时,涂层厚度为5~20μm;
其中,含Si和S的化合物分别选自:一种或多种的Si和S的化合物,或含Si化合物和含S硫化合物的混合物;
(2)涂层沉积完毕后,在乙烯高温裂解过程中,同时加入一种含Si、S、P的结焦抑制剂来抑制炉管结焦,其中,抑制剂中的Si∶S∶P的原子比为(20~10)∶(10~5)∶(2~1),抑制剂的加入量为20~1000ppm,优选在50~300ppm。
2.如权利要求1所述的一种抑制乙烯高温裂解结焦的复合方法,其特征在于,所述的预处理剂中含Si的化合物选自:硅烷、氯硅烷、四甲基硅烷,四乙基硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、四乙氧基硅烷、六甲基二硅氧烷中的一种;预处理剂中含S化合物选自羰基硫、硫化氢、二甲基二硫、甲硫醇、二甲基硫、次亚硫酸钠、噻吩中的一种。
3.如权利要求1所述的一种抑制乙烯高温裂解结焦的复合方法,其特征在于,所述的含Si的焦抑制剂为选自氯硅烷、四甲基硅烷、四乙基硅烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、四乙氧基硅烷、六甲基二硅氧烷中的一种,含S焦抑制剂为选自的羰基硫、硫化氢、二甲基二硫、甲硫醇、二甲基硫、次亚硫酸钠、噻吩、二甲基二硫化物、硫脲中的一种,含P焦抑制剂为选自磷酸三乙酯、亚磷酸三乙酯、磷酸三苯酯、六偏磷酸钠、α-羟基膦乙酸、o,o-二甲基硫代磷酸酯中的一种。
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