[发明专利]直接还原制备超细镍粉的方法

权利要求书

1.一种直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，以氯化镍晶体为镍源，将氯化镍晶体干燥脱水得到无水氯化镍，在保护性气体下用氢气直接在230℃-700℃温度下进行如下式(1)所示的还原反应，得到超细镍粉：

2.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述制得的超细镍粉的碳含量≤0.026％。

3.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述制得的超细镍粉的氧含量≤0.4％，硫含量≤0.06％，费氏粒度为1.0-5.0微米。

4.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述作为镍源的氯化镍晶体是化学式表示为NiCl₂.xH₂O中的一种或几种，其中x为0至6之间的自然数。

5.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述无水氯化镍通过以下步骤获得：将氯化镍晶体干燥脱水，控制干燥温度为120-150℃，干燥时间为5-8小时，脱去结晶水，研磨干燥后的固体，过100-300目筛，取筛下物即得所述无水氯化镍晶体。

6.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述的直接还原反应的氢气由氮气与氢气的混合气体提供，其中，氮气与氢气的体积比为5％-95％。

7.如权利要求6所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述混合气体流速控制在15-20m³/h。

8.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述的还原反应分为三个温度阶段：前低温段、前高温段和后低温段，前低温段和后低温段比前高温段的温度低5-50℃。

9.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，所述还原反应的时间为2-20小时。

10.如权利要求1所述的直接还原制备超细镍粉的方法，其特征在于，进一步对还原后产生的氯化氢产物通过进行回收，制成盐酸。