[发明专利]接触产品及其制备方法无效
申请号: | 201010206749.3 | 申请日: | 2005-03-14 |
公开(公告)号: | CN101880347A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 高沖和夫 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08F210/16 | 分类号: | C08F210/16;C08F4/70;C08F4/6592 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 产品 及其 制备 方法 | ||
1.一种由下列方法制备的接触产品,所述方法包含至少一种酞菁配位化合物、一种卟啉配位化合物、或酞菁配位化合物和卟啉配位化合物的混合物与表面活性剂接触的步骤,所述表面活性剂是由下式[1]表示的化合物:
ZR1n [1]
其中Z是氮原子;n是Z的化合价,由此n为3;和R1是烃基,并且多个R1彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的接触产品,其中所述的配位化合物是由下式[2]表示的配位化合物:
其中,M1是周期表的第2至12族或镧系的原子;所有的T是碳或氮原子;R2是氢原子、卤原子或烃基;各个R2彼此相同或不同,且可以相互连接形成环;R3是独立于R2的氢原子、卤原子或烃基;各个R3彼此相同或不同;当T是氮原子时,所有的R3都不存在;m是M1的化合价;X1是氢原子、卤原子、烃基或烃氧基;且当存在多个X1时,它们彼此相同或不同。
3.根据权利要求1所述的接触产品,其中配位化合物是由下式[3]表示的配位化合物:
其中M1是周期表的第2至12族或镧系的原子;m是M1的化合价;X1是氢原子、卤原子、烃基或烃氧基,且当多个X1存在时,它们彼此相同或不同。
4.根据权利要求2所述的接触产品,其中式[2]中的m为2。
5.根据权利要求1所述的接触产品,其中所述的接触是在极性溶剂存在下进行的。
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