[发明专利]内层基板用曝光装置以及基板和掩膜的剥离方法

权利要求书

1.一种内层基板用曝光装置，是在曝光平台上和配设在该曝光平台的上方的上框上分别配置曝光掩膜，能够将规定的图案曝光在配置在两者之间的基板的两面的内层基板用曝光装置，其特征在于，

在上述曝光平台和上述上框这两者上具备进行突出动作，将上述基板向从上述曝光掩膜剥下的方向推压的推进器，并在上述推进器前端部具备相对于上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，

上述喷嘴连接于与上述推进器的突出动作相吻合地使气体喷出的气体供给构件。

2.如权利要求1所述的内层基板用曝光装置，其特征在于，上述推进器设置在推压上述基板的端部的部位，上述喷嘴以向作为剥离对象的基板的中央喷出气体的方式形成在推进器前端部。

3.如权利要求1或2所述的内层基板用曝光装置，其特征在于，设置在上述曝光平台上的推进器的喷嘴在推进器为没入状态，也处于与曝光平台上连通的状态，并且，连接有在上述推进器为没入状态时，从上述喷嘴吸引空气的空气吸引构件。

4.如权利要求1或2所述的内层基板曝光装置，其特征在于，在上述气体供给构件和上述喷嘴之间，设置生成具有除静电作用的离子化气体的离子发生器，从上述喷嘴喷出的气体具有除静电作用。

5.如权利要求3所述的内层基板曝光装置，其特征在于，在上述气体供给构件和上述喷嘴之间，设置生成具有除静电作用的离子化气体的离子发生器，从上述喷嘴喷出的气体具有除静电作用。

6.一种基板和曝光掩膜的剥离方法，所述基板和曝光掩膜的剥离方法是在曝光平台和配设在曝光平台的上方的上框的至少任意一个上配置曝光掩膜，由上述曝光平台和上述上框夹入基板并进行曝光的曝光装置中，为了将上述基板从上述曝光掩膜剥下，在上述曝光平台和上述上框的至少任意一个上，通过上述曝光掩膜，设置向基板方向进行突出动作的推进器，使上述推进器突出，上推上述基板的一端，其特征在于，

在上述推进器上设置向上述基板和上述曝光掩膜之间喷出气体的喷嘴，一面由上述推进器上推上述基板，一面使气体从上述喷嘴喷出，促进剥离。

7.如权利要求6所述的基板和曝光掩膜的剥离方法，其特征在于，从上述喷嘴喷出的气体是发挥除去在上述基板和上述曝光掩膜之间产生的静电的作用的离子化的气体。