[发明专利]一种真空干法刻蚀机的静电处理方法及装置有效
| 申请号: | 201010192275.1 | 申请日: | 2010-05-26 |
| 公开(公告)号: | CN102263408A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
| 发明(设计)人: | 左迪建;张进 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号: | H02H9/04 | 分类号: | H02H9/04 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
| 地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 真空 刻蚀 静电 处理 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及半导体生产技术领域,尤其涉及一种真空干法刻蚀机的静电处理方法及装置。
背景技术
静电在日常的生活和工作中经常出现,一次走动,一次起坐均能达到上万伏的静电电压。在半导体生产过程中,真空干法刻蚀机是静电最具活跃的场所之一。例如真空干法刻蚀机AM8330。在一定的真空度条件下,在真空干法刻蚀机的电极上加入一定功率的射频(13.56MHZ)电源时,真空中的气体分子在射频电场作用下相互碰撞、摩擦、分解、电离而产生大量的离子、电子、自由基原子团等导电集合体。
在包括导电集合体的环境中,真空干法刻蚀机传片的晶圆产品的表面,与电极之间相对绝缘,并且晶圆产品的表面以及电极聚集的导电集合体极性相反、电荷量相等,因此表现出相互吸引的特性。但导电集合体会随着射频电源的停止而逐渐消失,从而不会影响晶圆产品的传输。
但是并且在真空干法刻蚀机电极中聚集的导电结合体,并不会随着射频电源的停止而逐渐消失,因此会对晶圆产品造成较强的吸附力,因此在对晶圆产品传片的过程中会导致掉片、碎片、叠片、断爪等故障,从而导致真空干法刻蚀机传片故障率高。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种真空干法刻蚀机的静电处理方法及装置,用以解决现有技术中真空干法刻蚀机传片故障率高的问题。
本发明实施例提供的一种真空干法刻蚀机,所述真空干法刻蚀机包括:电极和用于通过抓爪抓取所述电极上传输的晶圆的机械手臂,所述真空干法刻蚀机还包括静电释放控制模块;
所述静电释放控制模块的一端与所述电极相连,另一端接地,用于控制所述电极与地的开合。
发明实施例提供的一种真空干法刻蚀机的静电处理方法,在所述真空干法刻蚀机的电极与地之间连接静电释放控制模块,所述方法包括:
在所述真空干法刻蚀机的电极上停止加入射频信号时,所述静电释放控制模块控制所述电极与地接通,释放所述电极上聚集的静电。
本发明实施例提供了一种真空干法刻蚀机静电释放的方法及装置,真空干法刻蚀机中的电极通过连接静电释放控制模块,通过静电释放控制模块控制电极与地的开合,从而实现将真空干法刻蚀机上聚集的静电释放到大地,进而降低真空干法刻蚀机的传片故障率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的真空干法刻蚀机的组成结构示意图;
图2为本发明实施例提供的当该静电释放控制模块12采用手动控制时,该静电释放控制模块12的连接结构示意图;
图3为本发明实施例提供的当该静电释放控制模块12采用自动控制时,该静电释放控制模块12的连接结构示意图;
图4为本发明实施例提供的当该静电释放控制模块12采用自动控制时,静电释放控制模块12的另一连接结构示意图;
图5为本发明实施例提供的静电释放控制模块12的内部连接逻辑示意图。
具体实施方式
本发明实施例中为了有效的去除真空干法刻蚀机上的静电,采用静电释放控制模块的开合,控制电极与地的开合,从而有效释放真空干法刻蚀机上的静电,从而降低真空干法刻蚀机传片的故障率。
下面结合说明书附图,对本发明实施进行详细说明。
图1为本发明实施例提供的真空干法刻蚀机的组成结构示意图,该真空干法刻蚀机包括:电极10和机械手臂11,其中连接该机械手臂的抓爪用于抓取与所述电极上传输的晶圆,并且在本发明实施例中该真空干法刻蚀机还包括静电释放控制模块12,该静电释放控制模块12的一端与所述电极10连接,另一端接大地,该静电释放控制模块12用于控制电极10与地的开合。
在本发明实施例中该真空干法刻蚀机中的静电释放控制模块12可以采用手动控制,也可以采用自动控制。
图2为当该静电释放控制模块12采用手动控制时,该静电释放控制模块12的连接结构示意图。该静电释放控制模块12包括控制开关121,该控制开关121连接在电极11与地之间,控制开关121可以直接接地,或者也可以在与地之间连接电阻等与器件。例如在该静电释放控制模块12包括控制开关121以及连接该控制开关的两根导线,其中一根导线的一端与地连接,另一端与控制开关121的一端连接,另一根导线的一端与控制开关121的另一端连接,另一根导线的另一端与电极11连接。
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