[发明专利]一种多层薄膜的沉积方法

权利要求书

1.一种多层薄膜的沉积方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)通过交替通入气体，精确控制气体流量和气体通入时间；

(2)采用电弧离子镀技术沉积钛/氮化钛多层薄膜。

2.按照权利要求1所述的多层薄膜的沉积方法，其特征在于：采用气体质量流量控制器实现多路气体氩气和氮气的交替通入，且实现气体流量和气体交替通入时间的精确控制。

3.按照权利要求2所述的多层薄膜的沉积方法，其特征在于：采用气体质量流量控制器实现氩气的气体流量10～200sccm和氮气的气体流量10～200sccm的交替通入，且设定不同气体均交替通入1～30次。

4.按照权利要求1所述的多层薄膜的沉积方法，其特征在于，在高速钢或硬质合金工件表面沉积多层薄膜过程中，对气体流量进行精确控制，过程是：

(1)采用金属纯钛靶，待真空室内真空度达到5×10^-3Pa～1×10^-2Pa时，打开气体开关，开启气体质量流量控制器，设定所需的气体流量，先通入氩气，气压控制在0.5～2Pa之间，开启基体偏压至-500V～-1000V范围，使气体发生辉光放电，对样品进行辉光清洗5～10分钟；然后，调整Ar气流量，使真空室气压调整为0.2～0.6Pa，同时开启钛弧，对样品继续进行Ti⁺离子轰击1～5分钟；

(2)进入多层薄膜沉积过程，首先调整基体偏压为-100～-400V范围，设定气压为0.1～1Pa范围；启动设定气体质量流量控制器中的多种气体交替控制开关，设定氮气和氩气流量分别为所需流量10～200sccm，设定不同层沉积时间为30s～5min；

(3)沉积结束后，气体流量通入关闭，关闭基体偏压，关闭钛弧电源开关，继续抽真空，样品随炉冷却至50℃以下，镀膜过程结束。