[发明专利]包括ESD器件的集成电路有效
申请号: | 201010176727.7 | 申请日: | 2010-04-09 |
公开(公告)号: | CN101859763A | 公开(公告)日: | 2010-10-13 |
发明(设计)人: | M·迈耶霍弗;J·威莱门;D·约翰逊 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/784;H01L21/762 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李娜;蒋骏 |
地址: | 德国瑙伊比*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 esd 器件 集成电路 | ||
1.一种集成电路,包括:
半导体区域,其通过隔离区域与相邻的半导体区域电隔离;以及
其中ESD器件和配置为用于发射辐射的器件都形成在该半导体区域中。
2.根据权利要求1的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件和至少一个另外的电路元件的串联连接并联连接至该ESD器件。
3.根据权利要求1的集成电路,包括其中至少一个半导体区是ESD器件和配置为用于发射辐射的器件的组成部分,该至少一个半导体区在其表面侧处被电连接。
4.根据权利要求3的集成电路,包括其中该至少一个半导体区是该半导体区域的最外侧的半导体阱。
5.根据权利要求3的集成电路,包括其中该至少一个半导体区嵌入到该半导体区域的另外的半导体区中。
6.根据权利要求2的集成电路,包括其中该至少一个另外的电路元件包括齐纳二极管。
7.根据权利要求1-6任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是齐纳二极管,该齐纳二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极电耦合至相同的电路引脚。
8.根据权利要求1-6任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是二极管,该二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极电耦合至不同的电路引脚。
9.根据权利要求1-6任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件电耦合至电源引脚。
10.一种集成电路,包括:
第一半导体区域,其通过中间的隔离区域与第二半导体区域电隔离,该第一半导体区域包括ESD器件,该第二半导体区域包括配置为用于发射辐射的器件;以及
其中该ESD器件和该配置为用于发射辐射的器件都电耦合至相同的电路引脚对。
11.根据权利要求10的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件和至少一个另外的电路元件的串联连接并联连接至该ESD器件。
12.根据权利要求11的集成电路,其中该至少一个另外的电路元件包括齐纳二极管。
13.根据权利要求10的集成电路,包括其中该ESD器件的端子和该配置为用于发射辐射的器件的端子通过导线而短路。
14.根据权利要求10-13任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是齐纳二极管,该齐纳二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极连接至相同的电路引脚。
15.根据权利要求10-13任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是二极管,该二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极连接至不同的电路引脚。
16.一种集成电路,包括:
ESD器件,其形成在半导体衬底的半导体区域中,以及
配置为用于发射辐射的器件,设置在该ESD器件之上,该ESD器件和该配置为用于发射辐射的器件经由该半导体衬底的表面区域而光耦合。
17.根据权利要求16的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件形成在该半导体衬底之上的布线区中。
18.根据权利要求17的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件由多晶硅形成。
19.根据权利要求16的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件形成在不同于包括该ESD器件的半导体衬底的半导体衬底中。
20.根据权利要求16-19任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件和至少一个另外的电路元件的串联连接并联连接至该ESD器件。
21.根据权利要求16-19任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是齐纳二极管,该齐纳二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极电耦合至相同的电路引脚。
22.根据权利要求16-19任意一项的集成电路,包括其中该配置为用于发射辐射的器件是二极管,该二极管的阳极和该ESD器件的击穿pn结的阳极电耦合至不同的电路引脚。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010176727.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体结构及其形成方法
- 下一篇:电气元件
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的