[发明专利]一种曝光设备、掩膜板及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光设备，包括：承载基板的载台；在所述载台上方，与所述载台平行地设有掩膜板；所述掩膜板与所述载台之间设有透镜装置；第一照明光源，射出的光线从所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿过所述掩膜板，经由所述透镜装置射到所述载台；

其特征在于，在所述掩膜板的下表面上，所述掩膜板的光吸收区域中设有光反射区域；

在所述透镜装置中设有光反射装置；

第二照明光源，射出的光线通过所述透镜装置中的光反射装置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射区域反射，经由所述透镜装置射到所述载台。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述透镜装置包括：等腰梯形棱镜、凹透镜和凸透镜，其中，所述等腰梯形棱镜的上底面与下底面垂直于所述掩膜板，所述凹透镜和凸透镜位于所述等腰梯形棱镜的上底面一侧；

所述光反射装置为反射镜，设于所述等腰梯形棱镜中。

3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，

设所述等腰梯形棱镜腰面与下底面的夹角为b；

设所述等腰梯形棱镜上腰面的折射率为n；

设所述反射镜向上反射的光线与所述等腰梯形棱镜上腰面的法线夹角为c，则c＝arcsin(cosb/n)；

设所述反射镜的水平夹角为a，且2a＝b+c。

4.一种掩膜板，包括完全透光区域和光吸收区域，其特征在于，在掩膜板面向基板的一侧的光吸收区域中设有光反射区域。

5.一种曝光方法，其特征在于，包括：

将涂覆有第一光刻胶层的基板置于掩膜板的下方，所述基板与所述掩膜板平行；

开启第一照明光源，光线从所述掩膜板的上方垂直射到所述掩膜板的上表面，穿过所述掩膜板的完全透光区域，经由透镜装置射到所述第一光刻胶层上；

关闭所述第一照明光源；

将涂覆有第二光刻胶层的基板置于所述掩膜板的下方，所述基板与所述掩膜板平行；

开启第二照明光源，射出的光线通过所述透镜装置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面，被所述掩膜板下表面的光反射区域反射，再经由所述透镜装置射到所述第二光刻胶层上，其中，在所述掩膜板面向基板的一侧的光吸收区域中设有光反射区域。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述透镜装置包括：等腰梯形棱镜、凹透镜和凸透镜，其中，所述等腰梯形棱镜的上底面与下底面垂直于所述掩膜板，所述凹透镜和凸透镜位于所述等腰梯形棱镜的上底面一侧；所述光反射装置为反射镜，设于所述等腰梯形棱镜中。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

设所述等腰梯形棱镜腰面与下底面的夹角为b；

设所述等腰梯形棱镜上腰面的折射率为n；

设所述反射镜向上反射的光线与所述等腰梯形棱镜上腰面的法线夹角为c，则c＝arcsin(cosb/n)；

设所述反射镜的水平夹角为a，且2a＝b+c。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第二照明光源位于所述基板和所述掩膜板的外围侧，其所发射光线通过所述透镜装置被垂直地反射到所述掩膜板的下表面。