[发明专利]双垄沟地膜一年两用的方法

权利要求书

1.一种双垄沟地膜一年两用的方法，包括以下步骤：

(1)播前准备：首先选择上年采用旱作玉米双垄面集雨全膜覆盖沟播栽培技术种植玉米，且玉米收获后地膜未破损的地块，然后进行冬季地膜保护，最后在播种前7天清除秸秆；

(2)选种；

(3)在4月中下旬，当耕层地温稳定通过10℃时采用打孔点播，并与上年播种孔相错10～15cm；

(4)进行苗期、中期、后期的田间管理，并进行虫害防治；

(5)收获并回收残膜。

2.如权利要求1所述的双垄沟地膜一年两用的方法，其特征在于：所述步骤(2)中的选种是指海拔1800m以下地区选用中、晚熟品种，海拔1800～2300m地区选用中、早熟品种，且该早、中、晚熟品种均为包衣种子。

3.如权利要求1所述的双垄沟地膜一年两用的方法，其特征在于：所述步骤(3)中的点播密度是指土壤中矿质总含量为75％以上的旱川地、沟坝地、梯田地株距为32～35cm，保苗为48000～52500株/hm²；土壤中矿质总含量为55～75％的旱坡地株距为35～40cm，保苗为42000～48000株/hm²；早、中熟品种的株距为30～32cm，保苗为52500～55500株/hm²。