[发明专利]一种垂直结构发光二极管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201010166478.3 申请日: 2010-04-29
公开(公告)号: CN102237456A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 齐继航 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 垂直 结构 发光二极管 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于垂直结构发光二极管领域,尤其涉及一种散热效果好、出光效率高的垂直结构发光二极管及其制造方法。

背景技术

现有的垂直结构发光二极管,采用激光剥离技术将蓝宝石衬底完全剥离,露出发光外延结构,达到散热效果较好的目的;并在发光外延结构形成粗糙面以提高出光效率。由于激光处理过程中会产生过高温度,对不同结构层造成较大温差的影响,对外延层造成永久性破坏,严重影响器件的稳定性和使用寿命。并且在制造过程中要额外形成粗糙面,增加了制造的复杂度。

现有另一种垂直结构发光二极管,采用激光切割和激光剥离技术将蓝宝石衬底局部剥离,在剥离部分的发光外延结构上形成电极构成垂直型发光二极管。由于蓝宝石衬底约占结构总体厚度的90%以上,也是结构中最大热阻之一,局部剥离无法改善散热问题,制约器件的使用寿命。同时,局部激光切割和剥离制程生产效率缓慢,切割时间过长导致应力过大而造成规则或不规则裂片,降低了良率和产出,相应的增加了成本。

发明内容

本发明为解决现有发光二极管出光率低、散热效果差的技术问题,提供一种出光率高、散热效果好的垂直结构发光二极管的制造方法。

一种垂直结构发光二级管制造方法,包括:

(1)、在蓝宝石衬底上形成发光外延结构;

(2)、在发光外延结构上形成电流扩散层;

(3)在电流扩散层上形成第一导电电极;

(4)、将做好第一导电电极的发光外延结构形成在另一导电衬底上,形成倒装结构,保证蓝宝石衬底朝上;

(5)、将蓝宝石衬底减薄至指定厚度及指定粗糙度;

(6)、对上述减薄后的蓝宝石衬底进行光刻处理,得到电极结构图案,并将带电极结构图案的蓝宝石衬底剥离,露出部分发光外延结构;

(7)、在露出的发光外延结构上形成第二导电电极。

另外,本发明还包括一种垂直结构发光二级管,该垂直结构发光二级管包括:

导电衬底;

第一导电电极,位于所述导电衬底上;

电流扩散层,位于所述第一导电电极上;

发光外延结构,位于所述电流扩散层上;

蓝宝石衬底,位于所述发光外延结构上,所述蓝宝石衬底出光侧表面为粗糙面,厚度为2~15um,粗糙度为10~500nm;

至少一个第二导电电极,位于所述蓝宝石衬底侧并穿过蓝宝石衬底与所述发光外延结构连接。

本发明将蓝宝石衬底的厚度减薄到2~15um,提高了散热效果;将蓝宝石衬底保留一部分厚度,能提供出光效率,并在蓝宝石衬底出光面形成粗糙面,有效的提高了出光效率。本发明制成的垂直结构发光二极管出光率高、散热效果好,极大的提高了发光二极管的稳定性及使用寿命。

附图说明

图1至图6是本发明实施例提供的垂直结构发光二极管的工艺剖面图。

图中,附图标记表示:

11:蓝宝石衬底;  121:缓冲层;

12:发光外延结构;122:第二电性半导体;

13:电流扩散层;  123:发光层;

14:第一导电电极;124:第一电性半导体;

15:导电衬底;

16:第二导电电极。

具体实施方式

为了使本发明所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

本发明公开了一种垂直结构发光二极管的制造方法,结合图1至图6对该制造方法过程进行详细描述。

(1)、如图1所示,在蓝宝石衬底11上通过外延技术进行磊晶,将发光外延结构12形成在蓝宝石衬底11上,发光外延结构12包括:缓冲层121、第二电性半导体122、发光层123和第一电性半导体124。

发光层123的结构设计可适用于蓝光、绿光或者白光芯片的组建,外延磊晶过程中为了提升第一电性半导体124的导电性,对其进行退火处理。

(2)、如图2所示,通过电子枪蒸镀、磁控溅射等PVD(Physical VaporDeposition,物理气相沉积)技术在第一电性半导体124表面沉积透光率和导电性优良的电流扩散层13,此电流扩散层13的厚度在300nm左右,并通过高温形式对此电流扩散层13进行合金化,进一步提高该层电流扩散特性。

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