[发明专利]遮光元件、遮光元件的制造方法及镜头模组

权利要求书

1.一种遮光元件，其包括一块透光平板及设于该透光平板上的遮光屏蔽 层，该遮光屏蔽层具有一个远离该透光平板的顶面、一个靠近该透光平板的 底面及一个贯穿该顶面及底面的通光孔，其特征在于，该遮光屏蔽层包括磁 屏蔽层及夹设在该透光平板及该磁屏蔽层之间的遮光层，该磁屏蔽层包括自 该遮光层向外依次设置的铜膜层及不锈钢膜层，且该遮光屏蔽层远离该通光 孔的部分从顶面到底面依次为该磁屏蔽层及该遮光层，该遮光屏蔽层靠近该 透光平板的部分从该通光孔向外均为该遮光层。

2.如权利要求1所述的遮光元件，其特征在于：该遮光层包括铬层或氮 化铬层。

3.如权利要求1所述的遮光元件，其特征在于：该遮光元件进一步包括 夹设于该透光平板及该遮光屏蔽层之间的滤光层。

4.一种遮光元件的制造方法，其包括：

提供一块透光平板；

于该透光平板设置多个间隔分布的陶瓷粉体层，该陶瓷粉体层具有远离 该透光平板的上表面；

于该透光平板及该陶瓷粉体层上形成遮光层，该遮光层包括形成于该透 光平板上的第一底面部、形成于该多个陶瓷粉体层的上表面的多个第一顶面 部及形成于该多个陶瓷粉体层侧壁的多个第一环状部，该多个第一环状部将 该多个第一顶面部分别与该第一底面部相连；

于该遮光层上形成磁屏蔽层，该磁屏蔽层包括形成于该第一底面部上的 第二底面部、形成于该多个第一顶面部上的多个第二顶面部及形成于该多个 第一环状部侧壁的多个第二环状部，该多个第二环状部将该多个第二顶面部 分别与该第二底面部相连，且该第二底面部的远离该透光平板的表面低于该 陶瓷粉体层的上表面或者与该陶瓷粉体层的上表面处于同一平面；

采用研磨的方法将突出该第二底面部的凸起部分去除，以使多个未被研 磨掉的陶瓷粉体或者该多个陶瓷粉体层曝露在外；

去除该多个未被研磨掉的陶瓷粉体或者该多个陶瓷粉体层，以形成多个 间隔分布的通光孔，从而形成一个遮光元件阵列；

切割该遮光元件阵列以形成多个如权利要求1所述的遮光元件。

5.如权利要求4所述的遮光元件的制造方法，其特征在于：该陶瓷粉体 层的陶瓷粉体为磷酸铝、二氧化硅与水的混合物，其中，磷酸铝的重量百分 比范围为：5％～10％，二氧化硅的重量百分比范围为：40％～45％，水的重量 百分比范围为：45％～50％。

6.如权利要求4所述的遮光元件的制造方法，其特征在于：该磁屏蔽层 包括自该遮光层向外依次设置的铜膜层及不锈钢膜层。

7.如权利要求4所述的遮光元件的制造方法，其特征在于：采用酒精或 丙酮将该未被研磨掉的陶瓷粉体或者该多个陶瓷粉体层去除。

8.一种镜头模组，其包括：

一个镜片；及

一个与该镜片叠合在一起的遮光元件，该遮光元件包括一块透光平板及 设于该透光平板上的遮光屏蔽层，该遮光屏蔽层具有一个远离该透光平板的 顶面、一个靠近该透光平板的底面及一个贯穿该顶面及底面的通光孔，该通 光孔的中心轴与该镜片的中心轴重合，该遮光屏蔽层包括磁屏蔽层及夹设在 该透光平板及该磁屏蔽层之间的遮光层，该磁屏蔽层包括自该遮光层向外依 次设置的铜膜层及不锈钢膜层，且该遮光屏蔽层远离该通光孔的部分从顶面 到底面依次为该磁屏蔽层及该遮光层，该遮光屏蔽层靠近该透光平板的部分 从通光孔向外均为该遮光层。