[发明专利]照明源和掩模优化

权利要求书

1.一种用于掩模照明的照明源优化方法，包括步骤：

从照明源提供照明到若干源点及一预定掩模图案；

在由提供到预定掩模图案的照明形成的像面上选择分裂点；

确定每个分裂点处照明的强度和像斜率对数；

确定一优化源作为照明源，其使该像斜率对数在所选定的分裂点处最大化并具有在预定范围之内的强度。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括对优化照明源提供优化约束条件的步骤。

3.如权利要求1所述的方法，其中该确定照明源强度和形状的步骤确定一优化照明源，该优化照明源使该像面处的照明强度为一预定位。

4.如权利要求1所述的方法，其中该确定照明源的步骤确定照明源优化形状。

5.如权利要求1所述的方法，其中该础定照明源的步骤确定照明源优化强度。

6.一种确定优化掩模的方法，包括步骤：

确定理想掩模的优化衍射级；

基于理想掩模的优化衍射级获得优化透射掩模；及

基于优化透射掩模确定优化掩模，

其中，通过确定在像面上形成图像的衍射级幅值和相位，来确定该理想掩模的优化衍射级，在使用者选择的分裂点处使最小照明斜率对数最大化同时使照明强度在预定范围之内。

7.如权利要求6所述的方法，其中获得优化掩模透射特征的步骤包括确定优化掩模的水平衍射级的步骤，其中该水平衍射级数由下式决定：

m=2floor[Px(σmax+1)NAλ]+1]]>

其中，m表示水平衍射级数；

P_x表示重复单元在x方向上的间距；

λ表示照明源的波长；

NA表示投影光学系统的数值孔径；及

σ_max表示照明源光束分布的径向长度。

8.如权利要求6所述的方法，其中获得优化掩模透射特征的步骤包括确定优化掩模垂直衍射级的步骤，其中该垂直衍射级数由下式决定：

n=2floor[Py(σmax+1)NAλ]+1]]>

其中，n表示垂直衍射级数；

P_y表示重复单元在y方向上的间距；

λ表示照明源的波长；

NA表示投影光学系统的数值孔径；及

σ_max表示照明源光束分布的径向长度。

9.如权利要求6所述的方法，其中确定优化衍射级的步骤在特定频域中确定优化衍射级。

10.如权利要求6所述的方法，其中确定优化掩模的步骤包括：

找出最大和最小透射区域；

将以最大透射或最小透射区域为中心的区域指定为基本区域；

改变每个基本区域的边界以匹配优化衍射级，

其中每个基本区域具有一最小尺寸，该尺寸基本上等于掩模的最小特征尺寸。