[发明专利]表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法

权利要求书

1.一种表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征在于，包括步骤如下：

(1)将表面需要形成微纳米针晶布阵结构的铜板基材进行除油、除锈及活化前处理；

(2)将经步骤(1)前处理好的基材置于下述电镀溶液中，并将基材作为阴极，将钴板或不溶性极板作为阳极，并通过导线使基材、钴板或不溶性极板与电镀电源构成回路；

(3)通过电镀电源对基材实施电镀，电镀时用直流或用单脉冲或双脉冲电流。

2.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的除油，是指将基材表面粘附的油污有机物质去除的处理工序。

3.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的除锈，是指将基材表面的氧化层无机物质去除的处理工序。

4.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的活化，是指将基材在具有腐蚀性的溶液中浸泡，通过基材的轻微腐蚀，增加表面活性，提高后续镀层的结合强度的处理工序。

5.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的电镀溶液要求如下：钴及其合金的沉积金属离子0.1-2.5mol/L，络合剂0.1-2mol/L，缓冲剂硼酸0.5mol/L，结晶调整剂1-1000PPM，溶液温度40-70℃，pH值1.0-7.0。

6.根据权利要求5所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的钴及其合金的沉积金属离子由硫酸盐、氯化物或醋酸盐构成的金属盐提供。

7.根据权利要求5所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的络合剂是由柠檬酸盐、乙二胺四乙酸盐、醋酸盐、乙二胺中一种或两种以上构成。

8.根据权利要求5所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的结晶调整剂，由Cu、Ag、Zn、Sn、Ca以及Y、La、Ce、Eu稀土金属离子构成。

9.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的电镀，其电流密度为0.25-5A/dm2，电镀时间为50-5000s。

10.根据权利要求1所述的表面Co基微纳米针状晶布阵结构的制备方法，其特征是，所述的针状晶的平均高度为100-2000纳米，底部平均直径为50-600纳米。