[发明专利]一种抗阻塞高硬度薄膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明属于薄膜材料领域，具体来说是关于一种抗阻塞高硬度薄膜及其制造方法。实际上是在高分子基层的一面或两面，利用平均粒度为0.01～0.5μm的胶体二氧化硅，形成紫外线硬化薄膜，从而形成高硬度抗阻塞的薄膜。该技术中，利用胶体二氧化硅和基层材料之间的排斥力，使胶体二氧化硅在浮上基层表面，同时在紫外线硬化薄膜表面形成具有微细凹凸的抗阻塞高硬度薄膜。

背景技术

进入现代社会，各种平板显示器，特别是液晶显示器和触摸屏的使用不断增加，这些薄膜材料作为零配件的使用急剧增长。其中，各种透明的树脂材料被作为基础材料，随着材料技术及加工技术的不断发展，其在各种领域广泛地用来代替金属、木材、玻璃等材料，目前主要用于对透明度要求高的领域。

特别是随着触摸屏的使用范围和附加价值的增加，其中被广泛使用的电阻膜式触屏的需求有逐渐增加趋势。电阻膜式触屏，是在两张透明的电阻膜中加入格子状的导线，在接触时，感知接触点，然后转换成电子信号的方式。此项专利可以用于透明导电性薄膜中，目前透明导电性薄膜被广泛地用于ITO层压薄膜。

ITO层压薄膜是基础材料薄膜，是在硬化涂层薄膜上，用ITO喷溅涂覆法，使其层压在一起的。此时，辊轴和材料基层，或辊轴和硬化涂层薄膜之间发生结块、阻塞现象，辊轴运行时，辊轴和基层因摩擦产生吸附现象，由于产生静电等问题，阻碍了层压。

为了解决这个问题，需在基层或硬化涂层薄膜上，实现减小摩擦增加抗阻塞的效果，以及透明导电性薄膜所需的高透光率和低暗度等特性。

因此，为了解决上述问题，就要开发出在基层及其配套材料制造工艺中，能够改善表面润滑性及抗阻塞等特性的工艺和材料。

在韩国注册专利第10-0232386号中，揭示了最为广泛应用的利用聚对苯二甲酸乙二酯(polyethleneterephthalate，PET)在压出工序中，使含有二氧化硅、有机硅烷化合物的附加物、粘土、滑石、钙、钛、三氧化二铝等具有一定大小的微小粒子(fine particles)在表面上形成具有抗阻塞特性的凹凸的方法。但是，要想用上述方法获得具有令人满意的抗阻塞特性，必须添加过量的微细粒子，由此又产生了降低了透明基础材料的透光率、增加暗度等缺陷。

另外，在韩国公开专利第10-2006-0032395号中，登载了具有优秀的表面润滑及抗阻塞特性的水系列涂料，及涂有该涂料的透明基层的内容。上述文献的水系列涂料，由至少在水系列丙烯酸树脂、水系列氨基甲酸乙酯树脂、水系列丙烯酸/氨基甲酸乙酯共聚树脂中选择的一个树脂系列，至少在交联的聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和金属/有机酸复合物中选择一个直径为0.01～20μm的粒子系列，与在有机变性硅氧烷、有机变性硅氧烷乳液、脂肪族碳氢衍生物中选出的抗结块/润滑助剂、溶剂和添加剂构成。但是，上述技术具有基础材料的透光率低、暗度高、在压力及温度高，特别是湿度大时，抗阻塞特性改变等缺陷。

发明内容

本发明为了解决上述现有技术问题，在ITO层压前高分子基础材料上，补充了具有高硬度、高透光率和低暗度特性的抗阻塞硬化涂层薄膜。更具体地说，目的就是在高分子基层的一面或两面上，形成含有平均粒度为0.01～0.5μm的胶体二氧化硅的紫外线硬化涂层，使薄膜或基层即便是用大型辊轴卷起来，也能够具有优秀的抗阻塞特性，并且长期保存时因湿度而产生的物理变化也很小。

实现上述发明目的的本发明技术方案为：一种抗阻塞高硬度薄膜，包括高分子基层，在该高分子基层的一面或两面上，涂布有平均粒度为0.01～0.5μm的胶体二氧化硅的紫外线硬化涂层，形成抗阻塞高硬度薄膜。上述紫外线硬化涂层，是指含有紫外线硬化组成成分和胶体二氧化硅的混合物，该涂层靠紫外线硬化，且单分散的胶体二氧化硅浮于涂层表面。

上述作为薄膜的高分子基层材料可以是以下材料之一或其混合物：聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚乙烯2，6-萘、聚对苯二甲酸乙二酯、聚丁烯二甲酸丁二酯、三聚醋酸纤维、丙烯酸树脂或聚氯乙烯。

上述紫外线硬化涂层中所包含的紫外线硬化组成成分是由紫外线硬化树脂、有机溶剂、光起始剂及表面添加剂组成的混合物。