[发明专利]石英微机械陀螺仪敏感芯片化学刻蚀加工方法无效
| 申请号： | 201010115577.9 | 申请日： | 2010-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN101805130A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 张巧云;林日乐;翁邦英;周倩;谢佳维 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第二十六研究所 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;G01C19/56 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 李海华 |
| 地址： | 400060 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石英 微机 陀螺仪 敏感 芯片 化学 刻蚀 加工 方法 | ||
【权利要求书】：
1.石英微机械陀螺仪敏感芯片化学刻蚀加工方法，其特征在于：将光刻后的石英晶体放入腐蚀液中，在60℃-95℃温度条件下对石英晶体进行化学刻蚀，刻蚀时间为10-20小时；腐蚀液由水、氢氟酸和氟化铵混合而成，水、氢氟酸和氟化铵的质量比为1∶0.1-1.5∶0.05-0.5。
2.根据权利要求1所述的石英微机械陀螺仪敏感芯片化学刻蚀加工方法，其特征在于：所述刻蚀温度为70℃-85℃，刻蚀时间为15-18小时，水、氢氟酸和氟化铵的质量比为1∶0.3-1.0∶0.06-0.2。
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