[发明专利]一种显示装置与测量其表面结构的方法

说明书

技术领域

本发明关于一种显示装置与测量其表面结构的方法，特别是指一种显示装置表面结构与测量其表面结构尺寸的方法，其是应用于显示装置的领域。

背景技术

近年来显示器产品以轻、薄、短、小、高分辨率为设计概念，但这样的要求使得显示器内部构造物的设计、制造与尺寸量测上遇到很大的困难，为了在更小的空间内设置更多像素以提供更高的分辨率，往往造成各种构造物间隔空间的不足，导致构造物尺寸量结果的精确性与再现性不佳，进而对依赖尺寸量测结果以调整制造参数的制造工程造成困难，造成产品良率下降与产量减少的缺点。

请参阅图1，图1为一光学式结构量测设备(未绘示)与一显示器(未绘示)用的一第一基板210，该第一基板210具有一第一表面212；一图形化遮光层214，包含多数开口部216，设置于该第一基板210的该第一表面212上；至少一第一凸起物218，分别覆盖于该图形化遮光层214的该些开口部216与该遮光层214的一部份；至少一第二凸起物2184，设置于该图形化遮光层214。该光学式结构量测设备(未绘示)包含一可定位移动平台(未绘示)、一光源(未绘示)、一运算处理单元(未绘示)与一显微镜头100，该镜头100包含一分光镜(未绘示)、一第一光侦测器(未绘示)与一第二光侦测器(未绘示)。请参照图2，图2为一光学式结构量测设备(未绘示)与一显示器(未绘示)用的一第一基板210的A-A’剖面示意图，该可定位移动平台承载该待测显示器(未绘示)用的该第一基板210，使该显微镜头100位于该第一基板210的一该图形化遮光层214的正上方，该光源对该图形化遮光层214发射出一平行光束102，该平行光束102经该分光镜分为一量测光束与一干涉光束，该量测光束照射在该第一基板210的该图形化遮光层214，该第一光侦测器再接收自该图形化遮光层214反射回到该显微镜头的反射光并转换为一第一信号，该干涉光束由该第二光侦测器接收并转换为一第二信号；请参阅图3，图3为一光学式结构量测设备(未绘示)与一显示器(未绘示)用的一第一基板210的A-A’剖面示意图，移动该可定位移动平台使该该显微镜头100位于该第一基板210的第一表面212的一第一凸起物2182正上方，该光源对该第一凸起物218发射出一平行光束102，该平行光束102经该分光镜分为一量测光束与一干涉光束，该量测光束照射在该第一基板的第一凸起物218，该第一光侦测器再接收自该第一凸起物218反射回到该显微镜头的反射光并转换为一第三信号，该干涉光束由该第二光侦测器接收并转换为一第四信号；请参阅图4，图4为一光学式结构量测设备(未绘示)与一显示器(未绘示)用的一第一基板210的A-A’剖面示意图，再移动该可定位移动平台使该该显微镜头100位于该第一基板210的第一表面212的一第二凸起物2184正上方，该光源对该第二凸起物2184发射出一平行光束，该平行光束经该分光镜分为一量测光束与一干涉光束，该量测光束照射在该第一基板的第二凸起物2184，该第一光侦测器再接收自该第二凸起物2184反射回到该显微镜头的反射光并转换为一第五信号，该干涉光束由该第二光侦测器接收并转换为一第六信号；该运算处理单元接收该第一信号、该第二信号、该第三信号、第四信号、该第五信号与该第六信号进行运算并输出该第一基板表面的第一凸起物2182的高度与第二凸起物2184的高度值。

然而，为了在更小的空间内设置更多像素以提供更高的分辨率，各像素之间的遮光层幅宽必须缩小而无法提供足够宽度的单一平面，使得量测光束照射在该图形化遮光层214时不能得到均一的反射光，造成构造物尺寸量测结果的精确性与再现性不佳，进而对依赖尺寸量测结果以调整制造参数的制造工程造成困难，使得产品良率下降与产量减少的缺点。

发明内容

本发明的一目的，在于提供一种显示装置与其表面结构量测方法，其能避免传统方式所产生的构造物尺寸量结果的精确性与再现性不佳而衍生的产品良率下降与产量减少问题。