[发明专利]一种显示装置与测量其表面结构的方法

权利要求书

1.一显示装置，其特征在于，包含：

一第一基板，具有一第一表面；

一第一图形化遮光层，包含多数第一开口部，设置于该第一基板的该第一表面上；

至少一第二图形化遮光层，包含多数第二开口部，设置于该第一基板的该第一表面上的该些第一图形化遮光层之间；

至少一第一像素单元包含：

至少一第一凸起物，分别覆盖于该第一图形化遮光层的该些第一开口部；

至少一第二凸起物，设置于该第一图形化遮光层与该些第二图形化遮光层内；

至少一第二像素单元包含：

至少一第三凸起物，分别覆盖于该第二图形化遮光层的该些开口部；其中该些第二图形化遮光层的第二开口部的尺寸小于该些第一图形化开口部；

一第二基板，具有一第一表面，该第二基板相对设置于该第一基板的该第一表面的对面。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第一凸起物包含至少一红色滤光层、至少一蓝色滤光层与至少一绿色滤光层。

3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第二凸起物包含至少一柱状间隔物。

4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，该第三凸起物包含至少一红色滤光层、至少一蓝色滤光层与至少一绿色滤光层。

5.一种测量显示装置表面结构的方法；其特征在于，包含：提供一显示装置，该显示装置包含：

一第一基板，具有一第一表面；

一第一图形化遮光层，包含多数第一开口部，设置于该第一基板的该第一表面上；

至少一第二图形化遮光层，包含多数第二开口部，设置于该第一基板的该第一表面上的该些第一图形化遮光层之间；

至少一第一像素单元包含：

至少一第一凸起物，分别覆盖于该第一图形化遮光层的该些第一开口部；

至少一第二凸起物，设置于该第一图形化遮光层与该些第二图形化遮光层内；

至少一第二像素单元包含：

至少一第三凸起物，分别覆盖于该第二图形化遮光层的该些开口部；

其中该些第二图形化遮光层的第二开口部的尺寸小于该些第一图形化开口；

一第二基板，具有一第一表面，该第二基板相对设置于该第一基板的该第一表面的对面；

提供一测量设备；

基于该第一凸起物覆盖该第二图形化遮光层的表面，测量一第一高度，该第一高度为该第二图形化遮光层与该第一凸起物的高度差；

基于该第二凸起物覆盖该第二图形化遮光层的表面，测量一第二高度，该第二高度为该第二图形化遮光层与该第二凸起物的高度差；

计算一第三高度，该第三高度为该第一高度与该第二高度的差值。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，该第一凸起物包含至少一红色滤光层、至少一蓝色滤光层与至少一绿色滤光层。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，该第二凸起物包含至少一柱状间隔物。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，该第三凸起物包含至少一红色滤光层、至少一蓝色滤光层与至少一绿色滤光层。

9.如权利要求5所述的方法，其特征在于，该显示装置为液晶显示器、电泳显示器的其中之一。

10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，该测量设备为表面接触式量测设备、光学非接触式量测设备、超音波非接触式量测设备、音波非接触式量测设备的其中之一。