[发明专利]工作台清扫器、描绘装置以及基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及工作台清扫器以及具有该工作台清扫器的描绘装置和基 板处理装置。

背景技术

在与光掩模相关联的领域，例如，描绘/曝光工序、平坦度测定、坐 标测定等中，已指出，在将光掩模坯体或光掩模、或者其基板保持在工 作台上时，即使有少许变形，也会引起位置偏差不良或测定精度不良。

也就是说，在光掩模的制造中，在使用电子射线或激光来将预定的 设计图案描绘在光掩模坯体上的描绘工序、和使用预定的光掩模来对被 转印体的基板进行曝光的曝光工序中，当保持在工作台上的光掩模坯体 或作为被转印体的基板存在变形时，图案发生位置偏差。并且，在光掩 模的平坦度测定或坐标测定中，当保持在工作台上的光掩模存在变形时， 测定精度下降。

在由工作台所保持的状态下的光掩模或被转印基板的变形原因中， 考虑了工作台表面的变形和工作台上的异物。因此，以往开发出了在不 发生变形的情况下保持基板的基板保持装置。

在日本特开2005-101226号公报(专利文献1)中，记载了以下结 构的基板保持装置：在工作台的上表面具有凸部和用于向基板下面喷射 气体的排出孔，凸部具有部分地放置基板的放置面和保持基板的保持单 元，而且，向基板下面喷射的气体在水平方向排放。根据该结构，通过 从下方向基板喷射气体，可减少因自重引起的基板挠曲。并且，由于凸 部，与基板的接触面积变小，可减少由于灰尘等的异物进入工作台和基 板之间而使基板挠曲等的不利情况。

并且，以往是通过作业者的手工作业来进行用于去除工作台上的异 物的工作台表面清扫。

然而，在上述专利文献1记载的技术中，在工作台上有异物时，通 过减少基板和工作台的接触面积来减少由该异物造成的对光掩模坯体等 的变形的影响，然而并不减少异物本身。并且，在上述专利文献1的方 法中，不容易控制用于把基板维持为水平的空气流量。

并且，伴随近年的光掩模的大型化，描绘装置和检查装置的工作台 也大型化，很难通过手工作业来充分清扫工作台。而且，为了通过手工 作业来对大范围进行清扫，作业者向前探身进行作业，因而，由于该作 业姿势，产生了来自作业者的异物，具有反而污染了工作台的问题。

另外，近年，液晶显示装置等的显示装置制造用掩模(所谓的FPD 掩模)朝大型化方向发展，在这样的掩模制造和检查中使用的装置主体 也显著地变得大型化。例如，基板的大小是一边超过1m的矩形的情况也 不罕见，为了应对各种尺寸，上述装置的工作台处于例如需要一边是1.5m 以上的状态。

需要将基板放置在这样大的工作台上而进行图案的描绘、所形成的 图案的坐标位置精度的测定等。然而，在大型工作台上附着异物的情况 下，在描绘时，发生由异物引起的图案位置精度异常，并且，在坐标位 置精度测定时，发生检测出坐标偏移异常等的不利情况。加之，由于异 物而在基板背面发生裂纹或损伤的概率超过以往，因而在质量管理上也 成为大问题。

在这种状况下，通过浸渍了清洗液的织物等由人工进行清扫的方法 是困难的，而且是不可靠和不稳定的。

发明内容

本发明的目的是提供一种在描绘装置或检查装置等的基板处理装置 中使用的可靠减少工作台上的异物的工作台清扫器。

为了达到上述目的，本发明的发明人对高效、可靠地去除工作台上 的异物的方法作了锐意研究，结果，构思出一种可使用工作台清扫器来 去除工作台上的异物的基板处理装置，该工作台清扫器具有：清扫板， 其具有与工作台的基板放置面对置的平滑的平面；浮起机构，其使所述 清扫板在所述工作台上浮起到预定高度；以及驱动机构，其使所述清扫 板在与所述工作台的基板放置面平行的面内移动。

并且，还有这样的构思：利用该工作台清扫器向板状的清扫板和工 作台之间送入空气等的气体，通过使预定压力的气体存在，将板状部件 和工作台之间的间隙保持恒定，通过使板状部件在该状态下移动，利用 板状部件的端部去除工作台上的异物。