[发明专利]用于FinFET的ESD保护有效

专利信息
申请号: 201010106330.0 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN101814525A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 李介文;娄经雄 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L23/60;H01L21/60
代理公司: 北京市德恒律师事务所 11306 代理人: 梁永
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 用于 finfet esd 保护
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,包括:

收发器电路,包括鳍状场效应晶体管(FinFET)和第一接地总线;

接收器电路,包括FinFET和第二接地总线;以及

传输总线,电连接所述接收器电路和所述收发器电路,其中,所述接 收器电路和所述收发器电路均进一步包括静电放电保护电路,所述静电放 电保护电路包括电连接至所述传输总线的平面晶体管;

其中,所述收发器电路的所述平面晶体管包括平面PMOS晶体管和平 面NMOS晶体管,所述收发器电路的所述平面PMOS晶体管具有均电连接 至第一电源总线的源极和栅极以及电连接至所述传输总线的漏极,以及所 述收发器电路的所述平面NMOS晶体管具有均电连接至所述第一接地总线 的源极和栅极以及电连接至所述传输总线的漏极;

所述接收器电路的平面晶体管包括平面PMOS晶体管和平面NMOS晶 体管,所述接收器电路的所述平面PMOS晶体管具有均电连接至第二电源 总线的源极和栅极以及电连接至所述传输总线的漏极,以及所述接收器电 路的所述平面NMOS晶体管具有均电连接至所述第二接地总线的源极和栅 极以及电连接至所述传输总线的漏极。

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,第一电阻器被插入在所 述第一电源总线和所述平面PMOS晶体管的栅极之间,以及第二电阻器被 插入在所述第一接地总线和所述平面NMOS晶体管的栅极之间,

其中,电源钳位电连接所述第一电源总线和所述第一接地总线。

3.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,第一电阻器被插入在所 述第二电源总线和所述平面PMOS晶体管的栅极之间,以及第二电阻器被 插入在所述第二接地总线和所述平面NMOS晶体管的栅极之间,

其中,电源钳位电连接所述第二电源总线和所述第二接地总线。

4.根据权利要求1所述的半导体器件,其中,至少两个二极管电交叉 连接所述第一接地总线和所述第二接地总线。

5.一种半导体器件,包括:

传输总线;

收发器,包括:

第一电源总线;

第一接地总线;

收发器运算电路,包括电连接至所述传输总线的鳍状场效应晶 体管;

收发器静电放电保护电路,包括平面晶体管,其中,第一平面晶 体管将所述传输总线电连接至所述第一电源总线,以及第二平面晶体 管将所述传输总线电连接至所述第一接地总线;

接收器,包括:

第二电源总线;

第二接地总线;

接收器运算电路,包括电连接至所述传输总线的鳍状场效应晶体 管;以及

接收器静电放电保护电路,包括平面晶体管,其中,第三平面晶体管 将所述传输总线电连接至所述第二电源总线,以及第四平面晶体管将所述 传输总线电连接至所述第二接地总线;

其中,所述第一平面晶体管包括第一平面PMOS晶体管,所述第二平 面晶体管包括第二平面NMOS晶体管,所述第三平面晶体管包括第三平面 PMOS晶体管,以及所述第四平面晶体管包括第四平面NMOS晶体管,

其中,所述第一平面PMOS晶体管的栅极和源极电连接至所述第一电 源总线,所述第一平面PMOS晶体管的漏极和所述第二平面PMOS晶体管 的漏极电连接至所述传输总线,以及所述第二平面NOMS晶体管的栅极和 源极电连接至所述第一接地总线,以及其中,所述第三平面PMOS晶体管 的栅极和源极电连接至所述第二电源总线,所述第三平面PMOS晶体管的 漏极和所述第四平面NMOS晶体管的漏极电连接至所述传输总线,以及所 述第四平面NMOS晶体管的栅极和源极电连接至所述第二接地总线。

6.根据权利要求5所述的半导体器件,还包括:

第一电源钳位,将所述第一电源总线电连接至所述第一接地总线;以 及

第二电源钳位,将所述第二电源总线电连接至所述第二接地总线。

7.根据权利要求5所述的半导体器件,其中,交叉连接的二极管将所 述第一接地总线电连接至所述第二接地总线。

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