[发明专利]利用近似式的吸光度计算方法有效

专利信息
申请号: 201010104740.1 申请日: 2010-01-28
公开(公告)号: CN101858855A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 石突裕树;坂本尚志 申请(专利权)人: 株式会社佐竹
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 利用 近似 光度 计算方法
【权利要求书】:

1.一种分光分析装置的吸光度的计算方法,其特征在于,

向被测定物照射包含多个波长的光,接受来自所述被测定物的反射光或透过光,根据接受光得到的信息求出多个波长的吸光度,使用这些多个吸光度,将光的波长作为说明变量,将吸光度作为目的变量,求出2次以上的回归式,将特定波长的值代入到该回归式中,由此来计算所述特定波长的吸光度。

2.一种分光分析装置的吸光度的计算方法,其特征在于,

对权利要求1中记载的回归式进行微分,将特定波长的值代入微分后的回归式中,由此来计算所述特定波长的微分吸光度。

3.一种分光分析装置的机体差异修正方法,其特征在于,

在同一构造或同一产品的分光分析装置中,将该分光分析装置的至少一个作为基准设备,

在该基准设备中通过权利要求1记载的计算方法求出多个特定波长的吸光度,

使用该吸光度生成检量线,

将该检量线搭载到与基准设备不同的所述分光分析装置中,在根据在该不同的所述分光分析装置中测定得到的吸光度的信息,通过所述检量线计算被测定物的特定成分时,在该不同的所述分光分析装置中也通过权利要求1记载的吸光度计算方法求出所述特定波长的吸光度,并使用该吸光度。

4.一种分光分析装置的机体差异修正方法,其特征在于,

在同一构造或同一产品的分光分析装置中,将该分光分析装置的至少一个作为基准设备,

在该基准设备中通过权利要求2记载的计算方法求出多个特定波长的微分吸光度,

使用该微分吸光度生成检量线,

将该检量线搭载到与基准设备不同的所述分光分析装置中,在根据在该不同的所述分光分析装置中测得的微分吸光度的信息,通过所述检量线计算被测定物的特定成分时,在该不同的所述分光分析装置中也用权利要求2记载的微分吸光度计算方法求出所述特定波长的微分吸光度,并使用该微分吸光度。

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