[发明专利]一种二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法

权利要求书

1.一种二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法，该方法包括二氧化钛薄膜 的制备步骤，其特征在于：

所述制备方法是在真空状态下完成的；

所述制备方法包含了微波系统的使用；

所述二氧化钛薄膜的制备步骤是：

第一步：加热衬底，温度到350～400℃；

第二步：启动冷却水系统，通入冷却水；

第三步：启动抽真空系统，抽真空到1.3×10^-3Pa以下，保持真空状态；

第四步：进入还原系统，加载H₂到1～5×10Pa，20～25分钟，对钛靶表 面的氧化物进行还原；

第五步：送载气Ar，其压力为：1～5×10Pa；

第六步：启动微波系统，送入微波，电流为0.2～0.4A，使气体辉光放电， 加负偏压165V，离子清洗基底35～45分钟；

第七步：调节微波电流，使其为0.15A，偏压调到负30V，调节基座加热电 压，使温度降到200～210℃；

第八步：关闭氢气，调节Ar量，使真空度保持在4×10Pa，10分钟后通入 氧气，将钛靶电压升至1400～2200V；

第九步：测量钛靶区域产生的沉积二氧化钛薄膜厚度；

第十步：停机，所述停机的步骤是：

第一步，关闭基板加热装置，等待20分钟；

第二步，关闭质量流量计阀门，使导气管内Ar消耗20分钟；

第三步，停微波和靶电压，关掉气体钢瓶，停分子泵，停机械泵；

第四步，等待30-40分钟；

第五步，关掉冷却水，等炉体温度下降到室温后，取出所需的薄膜材料。

2.根据权利要求1所述的二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法，其特征 在于：产生的二氧化钛薄膜沉积在衬底上，所述衬底是金属。

3.根据权利要求1所述的二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法，其特征 在于：产生的二氧化钛薄膜沉积在衬底上，所述衬底是陶瓷。

4.根据权利要求1所述的二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法，其特征 在于：产生的二氧化钛薄膜沉积在衬底上，所述衬底是玻璃。

5.根据权利要求1所述的二氧化钛薄膜的微波等离子体制备方法，其特征 在于：产生的二氧化钛薄膜沉积在衬底上，所述衬底是硅片。