[发明专利]液晶阵列检查装置以及液晶阵列检查装置的信号处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种使用在液晶基板上进行拍摄而得到的摄像图像来检查液晶阵列的液晶阵列检查装置，特别涉及一种适于检测缺陷的检测强度的数据处理。

背景技术

在液晶阵列检查装置中，作为在液晶基板上进行拍摄而得到的摄像图像，能够使用光学拍摄得到的光学摄像图像或利用电子束、离子束等带电粒子束在基板上进行二维扫描而得到的扫描图像。

在用于TFT(Thin Film Transistor：薄膜晶体管)显示器装置的TFT阵列基板的制造工序中，对所制造出的TFT阵列基板是否正确地进行驱动进行检查，而在该TFT阵列基板的检查中，例如使用电子束作为带电粒子束，通过对TFT阵列基板进行扫描来获取扫描图像，根据该扫描图像进行检查(专利文献1、2)。

例如，已知如下一种阵列检查装置：对作为检查对象的液晶基板的阵列施加检查信号，利用电子束、离子束等带电粒子束在基板上进行二维扫描，根据通过束扫描而得到扫描图像来进行基板检查。在阵列检查中，通过光电倍增管等将在电子射线的照射下放出的二次电子转换为模拟信号来进行检测，根据该检测信号的信号强度来判断阵列缺陷。

在利用检测强度进行的阵列检查中，通过以例如256级的灰度表现检测强度来进行标准化。为了对检测强度进行灰度显示，需要作为基准的信号强度。可以将信号强度不同的两个值用作基值，该基值即为信号强度的基准。

例如，基于施加检查信号时的电压，将信号强度低的值和信号强度高的值分别作为基准值和正常值，将基准值设为强度0，将正常值设为强度100，来确定灰度的信号水平的基值。

作为基准值，例如已知如下的情况：将从构成基板的边框处得到的信号强度用作在零电位下得到的检测强度(参照专利文献3)。

另外，也包括如下的情况：对基板的像素施加不同电压的检查信号，通过施加这种电压来获得两个信号强度，从而求得基准值和正常值来作为基值。

一般来说，二次电子的检测强度中包括扫描所带来的变动成分(波动)。因此，在使用一个基值对一个面板设定灰度的情况下，灰度值无法应付检测强度所包含的变动成分，因此灰度值会随着检测强度的波动而发生变动，从而产生即使像素的电位相同也变成不同的灰度值的问题。

因此，在以往，通过动态地算出每个成为对象的像素的正常值的基值，来抑制灰度值随着检测强度的波动而变动。该正常值的基值的动态计算是如下那样进行的：获取位于对象像素附近的多个像素的检测强度，然后使用多个检测强度来通过中值处理求出中央值的检测强度，将该检测强度确定为对象像素的基值。

专利文献1：日本特开2004-271516号公报

专利文献2：日本特开2004-309488号公报

专利文献3：日本特开2005-321308号公报(0045段)

发明内容

发明要解决的问题

在为了抑制检测强度的波动所导致的变动而通过中值处理计算对象像素的正常值的情况下，存在由于缺陷的种类而难以检测到缺陷的问题。

例如，在对象像素的附近存在较大缺陷的情况下，即使对象像素的检测强度具有正常值，有时也会由于进行中值处理而将缺陷像素的检测强度计算为对象像素的检测强度，从而产生对对象像素设定了错误的检测强度的问题。

图13是用于说明以往的正常像素的检测强度的计算的图。图13的(a)是用于说明对象像素Psu、附近像素Pne、正常像素Pno、缺陷像素Pde的关系的图。图13的(b)是用于说明中值处理的图。

在图13的(a)中，示出了在对象像素Psu的周围设定了八个附近像素Pne的情况。附近像素Pne中的五个是缺陷像素，剩下的四个是正常像素。在图13的(a)中，以加有斜线的像素来表示缺陷像素。用“e”来表示图13的(a)的对象像素Psu的检测强度，用“f”、“h”、“i”来表示周围八个附近像素Pne的检测强度中的正常像素Pno的检测强度，用“a”、“b”、“c”、“d”、“g”来表示缺陷像素Pde的检测强度。

如图13的(a)所示的例子，在存在较大缺陷的情况下有时会由于进行中值处理而算出错误的检测强度。图13的(b)示出了中值处理的一例。在以从小到大的顺序将各像素的检测强度进行排列来求出中央值的情况下，会将缺陷像素Pde的检测强度g计算为对象像素Psu的检测强度。此外，在此，设缺陷像素的检测强度比正常像素的检测强度大。

图14是用于说明由于错误计算检测强度而导致缺陷的检测失败和错误检测的图。