[发明专利]具有静电放电保护结构的光刻掩模版

权利要求书

1.一种光刻掩模版，其包括：

透明衬底；以及

在所述透明衬底上的金属图案，其形成至少一个平衡环结构。

2.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述金属图案被配置为在所述平衡环结构中形成至少一个器件结构环和至少一个平衡环，其中所述器件结构环具有第一宽度，并且其中所述平衡环具有小于所述第一宽度的第二宽度。

3.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述平衡环结构是由通过环彼此电分离的第一和第二金属区域形成的。

4.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述平衡环结构是由通过多边形环彼此电分离的第一和第二金属区域形成的。

5.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述平衡环结构是由通过矩形环彼此电分离的第一和第二金属区域形成的。

6.根据权利要求5所述的光刻掩模版，其中所述矩形环至少具有第一段和第二段，每一段具有相关宽度，且其中所述第一段的宽度不同于所述第二段的宽度。

7.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述平衡环结构是由通过三角形环彼此电分离的第一和第二金属区域形成的。

8.根据权利要求7所述的光刻掩模版，其中所述三角形环至少具有第一段和第二段，每一段具有相关宽度，且其中所述第一段的宽度不同于所述第二段的宽度。

9.根据权利要求7所述的光刻掩模版，其中所述三角形环具有三个相等的内角。

10.根据权利要求7所述的光刻掩模版，其中所述三角形环具有三段，所述三段中的至少两段具有不相等的长度。

11.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述平衡环结构是由通过环彼此电分离的第一和第二金属区域形成的，且其中所述环具有至少一个小于90°的内角。

12.根据权利要求1所述的光刻掩模版，其中所述金属图案被配置成在所述平衡环结构中形成至少一个器件结构环和至少一个平衡环，其中所述器件结构环具有最小宽度，其中所述平衡环具有宽度小于所述最小宽度的至少一个段，且其中所述平衡环位于距器件环结构的100μm内。

13.一种方法，其包括：

用计算机辅助设计工具执行布局操作以生成掩模版布局；

用所述计算机辅助设计工具识别掩模版位置，在该位置平衡结构可以被用在所述掩模版布局中；以及

用所述计算机辅助设计工具将平衡结构合并到所述掩模版布局内所识别的掩模版位置处。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述平衡结构包括被所述光刻掩模版上的无金属缝隙围绕的中央掩模版金属区域。

15.根据权利要求13所述的方法，其中所述光刻掩模版包括至少一个器件结构，且其中所述平衡结构比所述器件结构对静电放电更敏感。

16.一种光刻掩模版，其包括：

衬底；以及

所述衬底上的导电材料，其形成至少一个静电放电保护结构。

17.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其进一步包括至少一个金属器件结构，其中所述静电放电保护结构比所述金属器件结构对静电放电更敏感。

18.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其进一步包括至少一个金属器件结构，其中所述金属器件结构具有有第一宽度的相关无金属环，且其中所述静电放电保护结构包括被无金属环围绕的中央金属区域，该无金属环具有小于所述第一宽度的第二宽度。

19.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其进一步包括对应于集成电路上的电学器件的图案化金属区域，其中所述静电放电保护结构不对应于所述集成电路上的所述电学器件。

20.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其进一步包括图案化金属区域，其中所述金属器件结构具有有第一面积的中央金属区域，且其中所述静电放电保护结构具有有小于所述第一面积的第二面积的中央金属区域。

21.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其中所述静电放电保护结构不对应于任何集成电路器件结构。

22.根据权利要求16所述的光刻掩模版，其中所述静电放电保护结构包括平衡环。