[发明专利]玻璃基板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板，特别涉及优选用于平板显示器、尤其等离子显示板(PDP)的玻璃基板及其制造方法。

背景技术

在PDP制造过程中，对玻璃基板实施各种热处理。因此，需要的是，PDP用的玻璃基板具有不会由于热处理而产生热变形或热收缩的程度的高玻璃化转变点，且热膨胀系数与钠钙玻璃接近。另外，近年来，PDP正在大型化，随之而来需要比重低的玻璃基板。

作为用于解决这些问题的玻璃基板，例如，可列举出专利文献1中记载的玻璃基板。

另外，除了上述课题以外，还要求PDP用玻璃基板不发生黄变。黄变是指，由于在玻璃基板表面烧成形成用于使等离子体放电的银电极，玻璃基板表面变色为黄色的现象。

作为上述黄变的解决对策，已知例如有：平板显示基板，其特征在于，通过研磨形成有金属电极的表面，除去表面形成的还原性的异质层(例如参照专利文献2)；等离子显示装置，其特征在于，Fe₂O₃的量低于2000ppm(0.2％)，金属电极由银构成(例如参照专利文献3)；图像显示装置用的玻璃基板的制造方法，在玻璃基板的Sn²⁺的量超过容许值时，进行控制以减弱浮法窑内的还原力(例如参照专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平10-152338号公报

专利文献2：日本特开平10-255669号公报

专利文献3：日本特开平10-334813号公报

专利文献4：日本特开2004-189591号公报

发明内容

发明要解决的问题

满足上述所有课题的玻璃基板，即玻璃化转变点高、热膨胀系数接近钠钙玻璃、比重低、进而不发生黄变的玻璃基板是非常难以得到的。例如，上述专利文献1中记载的玻璃基板没有解决黄变的抑制。另外，在专利文献2记载的方法中，观察到了黄变抑制效果，但必需研磨所生产的玻璃板，该研磨成本是庞大的。另外，不能满足玻璃化转变点、热膨胀系数和比重。另外，专利文献3和专利文献4中记载的方法不一定会获得对黄变的抑制效果。

本发明的目的在于解决这样的问题，提供一种抑制黄变、进一步熔解性良好、生产率高的玻璃基板。

用于解决问题的方案

本发明人发现以下所示的本发明的玻璃基板解决了上述问题。另外发现，这种玻璃基板可通过本发明的制造方法来制造。

本发明的玻璃基板以氧化物为基准且以质量百分率表示时，实质上具有如下组成：

比重为2.7以下，50～350℃下的平均热膨胀系数为80×10^-7/℃～90×10^-7/℃，玻璃化转变点为640℃以上，将粘度设为η时，满足logη＝2的温度为1550℃以下，在玻璃表面涂布银糊并进行烧成后，除去该银糊后的玻璃表面的黄色着色度b^*为8以下。

另外，本发明的制造方法是得到本发明的玻璃基板的玻璃基板的制造方法，其为制造玻璃基板的方法，该方法中，将使原料熔融而得的熔融玻璃用浮法成形炉成形为玻璃带(glass ribbon)，然后通过冷却装置缓冷、切割，其中，浮法槽(float bath)气氛的氢浓度超过3％，浮法槽内的玻璃滞留时间为4～15分钟。

发明的效果

根据本发明，可以得到玻璃化转变点高、热膨胀系数与钠钙玻璃接近、比重低、不容易产生黄变、进一步熔解性良好、生产率高的玻璃基板。

本发明的玻璃基板可以适宜地用作PDP用玻璃基板。

具体实施方式

以下对本发明的玻璃基板进行说明。此外，没有特别说明时，含量、添加量等用质量百分率表示，以下以％表示。

SiO₂是构成玻璃骨架的成分。含量低于55％时，耐热性低劣，另外，容易划伤，优选为59％以上。另一方面，超过65％时，热膨胀系数变得过小，优选为64％以下，更优选为63％以下，进一步优选为62％以下。