[发明专利]阳图制版可成像元件及其使用方法

权利要求书

1.对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件，它包含其上具有单一可成像层的衬底，

所述可成像层包含吸收红外辐射的化合物和在其主链中包含氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料，其中所述第一聚合物连接料不溶于水中且可溶于碱性溶液中。

2.权利要求1所述的可成像元件，其中基于所述层固体计，所述第一聚合物连接料以至少50重量％的量存在于所述可成像层中。

3.权利要求1所述的可成像元件，其中所述第一聚合物连接料可溶于pH为12或更低的碱性溶液中。

4.权利要求1所述的可成像元件，其中所述第一聚合物连接料在其主链中还包含砜单元。

5.权利要求1所述的可成像元件，其中吸收红外辐射的化合物为红外辐射染料，所述红外辐射染料以至少0.1重量％的量存在。

6.权利要求1所述的可成像元件，其中基于可成像层的干重计，所述可成像层还包含2-50重量％的量的第二聚合物连接料，所述第二聚合物连接料不溶于水中，且可溶于pH为12或更低的碱性溶液中。

7.权利要求6所述的可成像元件，其中所述第二聚合物连接料为丙烯酸类聚合物或酚醛树脂。

8.权利要求1所述的可成像元件，其中所述可成像层还包含溶解抑制剂。

9.权利要求1所述的可成像元件，其为包含含铝衬底的平版印刷印版前体。

10.提供图像的方法，其包括：

A)使用激光将权利要求1所述的可成像元件成像曝光，以提供具有曝光区域和非曝光区域的曝光元件，和

B)使所述曝光元件与pH为12或更低的碱性处理溶液接触，以仅主要除去曝光区域。

11.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液的pH为11或更低。

12.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液是单相溶液并含有0.5-15重量％有机溶剂，且不含硅酸盐、偏硅酸盐和碱金属氢氧化物。

13.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液既显影又在成像且显影的表面上提供保护涂层。

14.权利要求10所述的方法，其中所述碱性处理溶液的pH为10.5或更低。