[发明专利]RNA合成－用于反向合成RNA的亚磷酰胺，以及在3’-末端合成RNA的配体、发色团和修饰物的方便引入中的应用

权利要求书

1.一种式(1)的亚磷酰胺，

其中，

Y为氧或硫；

W为氧、氮和氟；

R₄选自叔丁基二甲基甲硅烷基(TBDMS)、三异丙基甲硅烷基氧亚甲基、芴基甲基氧羰基(Fmoc)、烷基、芳基和乙酰基；

Z为由二甲氧基三苯基(DMT)、一甲氧基三苯基(MMT)和三甲氧基三苯基(TMT)组成的保护基；

R₁为烷基或芳基；

R₂为烷基或芳基；

R₃为氰乙基，烷基或芳基；并且

B为氢或者任选地在各个伯胺上使用胺保护基官能化的核苷碱基。

2.一种式(1)的亚磷酰胺：

其中

Y为氧或硫；

W为硫；

R₄为苯甲酰基，乙酰基或二硫化物；

Z为由二甲氧基三苯基(DMT)、一甲氧基三苯基(MMT)和三甲氧基三苯基(TMT)组成的保护基；

R₁为烷基或芳基；

R₂为烷基或芳基；

R₃为氰乙基，烷基或芳基；并且

B为氢或者任选地在各个伯胺上使用胺保护基官能化的核苷碱基。

3.一种通过在5’-至3’-方向上成键来制备寡核苷酸的方法，所述方法用于合成选自以下结构式的RNA寡聚物：

所述方法包括将化合物

其中：

B为氢或者任选地在各个伯胺上使用胺保护基官能化的核苷碱基；

n为0至98；

Y为氧或硫；

W为氧、氮、硫或氟；

当W不为硫时，R₄为甲硅烷基醚如TBDMS、三异丙基甲硅烷基氧亚甲基、Fmoc、烷基、芳基或者乙酰基；而当W为硫时，R₄为苯甲酰基，乙酰基或二硫化物；

Z为DMT、MMT、TMT保护基；

R₁和R₂独立地选自烷基或芳基基团；

R₃为氰乙基、烷基或者芳基；并且

M为氢自由基或Y-CO-；其中Y是适用于结合至固体载体的连接体。