[发明专利]对准系统、对准系统的控制方法、程序以及测定装置

说明书

技术领域

本发明涉及对准系统(alignment system)、对准系统的控制方法、程序以及测定装置。

背景技术

专利文献1在其图10中公开了一种对被检查透镜的透射波阵面进行测定的斐索(Fizeau)型干涉仪，记载了在测定之前为了得到干涉条纹而需要进行其图7～图9所示的调整和反射型球面标准原器(prototype)的位置调整。

另外，专利文献2公开了一种斐索干涉仪，在该斐索干涉仪中，在由操作者在三轴方向上手动地将被检查透镜粗调到能够看到干涉条纹的程度之后，计算机根据干涉条纹的分析结果，在三轴方向上自动地对被检查透镜进行微调。被检查透镜在微调动作中，以比粗调动作更高的精度进行定位，以消除参照面与被检查透镜的位置偏差。

另外，在对比文件3中也公开了在一旦得到干涉条纹后调节其位置(例如最浓的干涉条纹的位置)的两阶段自动对焦方法。

专利文献1：日本特开2005-201703号公报

专利文献2：日本特开2005-265586号公报

专利文献3：日本特开平09-120006号公报

发明内容

但是，专利文献1的图7～图9所示的调整和反射型球面标准原器的位置调整繁杂，除了这些调整外，实际上还需要进行与被检查透镜的光轴垂直的方向上的位置调整。这些调整由熟练人员根据经验手动进行，在调整甚至波阵面像差的测定中花费时间。另外，基于熟练人员经验的具体调整方法(例如，基于什么样的信息在哪个方向上将哪个部件移动多少才可以)是未知的。因此，再现性和精度差，此后的干涉条纹的分析花费时间，或者导致测定误差。或者，如果是专利文献2，则干涉条纹的分析花费时间，或在微调调节中花费时间。

因此，本发明的示例性的目的是提供一种能够在短时间内简单且高精度地对被检查透镜的透射波阵面进行测定的测定装置、用于其的对准系统、对准系统的控制方法和程序。

作为本发明的一个方面的对准系统，被使用于对被检查透镜的透射波阵面进行测定的测定装置，该测定装置具有干涉仪，该干涉仪利用摄像设备检测由测定光和来自参照面的参照光形成的干涉条纹，其中所述测定光是来自光源的光通过所述被检查透镜后由反射型球面标准原器反射、并再次通过所述被检查透镜而生成的光，所述对准系统将所述被检查透镜的聚光点与所述反射型球面标准原器的球心进行对位，其特征在于，所述对准系统具有：移动部，使载置所述被检查透镜的载置台移动；和计算机，控制所述移动部对所述载置台进行的移动，其中，所述计算机具有：明暗区域识别模块，在所述摄像设备的检测所述干涉条纹的检测区域内，识别具有阈值以上的亮度且比所述被检查透镜的面积小的明暗区域；移动控制模块，设定所述载置台应移动的移动方向和移动量，根据所设定的所述移动方向和所述移动量来控制所述移动部；和方向判断模块，判断所设定的位置是接近所述检测区域的中心还是离开所述检测区域的中心，其中，在按照所述移动控制模块进行所述设定的移动方向移动了所述载置台的结果，在所述方向判断模块判断为所述明暗区域的中心向从所述检测区域的中心离开的方向移动的情况下，所述移动控制模块将所述设定的移动方向重新设定为相反方向，并按照重新设定的移动方向控制所述移动部。

作为本发明的另一个方面的程序，使上述计算机作为明暗区域识别单元、移动控制单元、方向判断单元而发挥功能，并且，所述程序发挥如下功能：在按照所述移动控制单元进行所述设定的移动方向移动了所述载置台的结果，所述方向判断单元判断为实际上所述明暗区域的中心向从所述检测区域的中心离开的方向移动的情况下，所述移动控制单元将所述设定的移动方向重新设定为相反方向，并按照重新设定的移动方向控制所述移动部。