[发明专利]用于提供植入用支架的装置和方法

权利要求书

1.一种为进入体腔的植入提供支架的装置，其中支架(3)具有近端(31)和远端(32)，其中具有可压缩直径d的支架内腔在上述端之间延伸，并且所述装置包括：

具有元件(40)的卷曲设备(4)，所述元件围绕一个轴布置并能够相对于该轴彼此相对的至少部分地径向移动，和

用于启动卷曲设备(4)的致动器(42)，

其中元件(40)包围支架(3)，并借助致动器(42)能够沿径向方向从支架(3)未卷曲的扩张位置移动到支架(3)具有压缩的直径d的闭合位置，

其特征在于：准备存储空间，其由惰性介质或惰性填充物构成，并形成包裹物，在包裹物中支架(3)至少大部分时间以惰性方式存储，同时元件(40)包围支架(3)并能从扩张位置移动到闭合位置。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：卷曲设备(4)布置在支架(3)的存储空间的外部。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于：支架(3)以惰性方式存储在其中的封装(1)被设置为存储空间。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于：封装(1)具有延展性的壁。

5.根据权利要求3和4所述的装置，其特征在于：提供一个入口用于在卷曲设备(4)的元件(40)之间馈送具有支架的封装(1)。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：至少卷曲设备(4)的元件(40)设置在其中布置有支架(3)的存储空间内。

7.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：致动器(42)布置在其中布置有支架(3)的存储空间的外部。

8.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：保护套设置在支架(3)和元件(40)之间。

9.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：元件(40)至少在其接触支架(3)的那些区域中具有惰性表面。

10.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：元件(40)至少部分的由惰性材料构成。

11.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：元件(40)的表面具有亲水性能。

12.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：存储空间由容器提供，所述容器填充有比空气重的惰性气体。

13.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：存储空间设置为包裹支架(3)的气云或支架(3)的表面上的润湿膜。

14.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：支架(3)大部分时间以惰性方式进行存储，以便在支架表面(35)不存在显著再污染的时间周期内，惰性包裹物的供应能够中断。

15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于：惰性包裹物中断期间的周期不会超过大约15分钟。

16.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于：至少导管的远端设置在存储空间内以便在压缩状态保持支架，其中球囊导管(5)或管导管(6)以互补的方式被分配至球囊膨胀或自膨胀支架(3)。

17.根据权利要求16所述的装置，其特征在于：导管的近端通过入口(110)突出到存储空间外部。

18.一种为进入体腔的植入提供支架的方法，其中支架(3)具有近端(31)和远端(32)，支架内腔具有在近端和远端之间延伸的可压缩直径d，包括：

将支架(3)存储在由惰性介质构成或包括惰性填充物的存储空间内，惰性介质或惰性填充物形成支架(3)的包裹物，和

利用具有可移动元件(40)的卷曲设备(4)压缩支架(3)，所述元件包围支架(3)并且从扩张位置移动到闭合位置，其中，支架(3)保持在惰性包裹物中，或在支架(3)表面(35)不存在显著污染或支架(3)表面(35)上水滴的接触角没有显著增加的时间周期内，提供惰性包裹物的中断。

19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于：惰性包裹物在支架(3)的压缩期间中断。

20.根据权利要求18或19之一所述的方法，其特征在于：清洁处理在支架(3)的惰性存储之前或期间实行，因此，作为亲水性的度量，相比于处理之前的接触角，位于表面(35)上的水滴的接触角减小。