[发明专利]用于辐射灭菌的亲水性涂层的缓冲膨胀介质

权利要求书

1.一种医疗装置，其包含灭过菌的亲水性涂层，同时接触包含以下物质的液体：

a)亲水性聚合物；和

b)独立的缓冲剂，其选自羧酸、氨基酸、氨基磺酸和无机酸。

2.根据权利要求1的医疗装置，其中装置是亲水性涂覆的导管。

3.根据权利要求1或2任一项的医疗装置，其中亲水性涂层是PVP涂层。

4.根据之前任一项权利要求的医疗装置，使用辐射灭菌。

5.根据之前任一项权利要求的医疗装置，其中亲水性聚合物是没有缓冲能力的亲水性聚合物。

6.根据之前任一项权利要求的医疗装置，其中亲水性聚合物是在约pH4没有缓冲能力的亲水性聚合物。

7.根据之前任一项权利要求的医疗装置，其中独立的缓冲剂具有至少一个在2.7至5之间的pK_a值。

8.根据之前任一项权利要求的医疗装置，其中缓冲能力从pH4至pH7.4低于4mM。

9.一种无菌设备，其包含医疗装置，所述装置含有亲水性涂层，并接触包含以下物质的含水液体：

a)亲水性聚合物；

b)独立的缓冲剂；

其中所述设备接触所述液体时使用辐射进行灭菌。

10.根据权利要求9的无菌设备，其中装置是亲水性涂覆导管。

11.根据权利要求9或10任一项的无菌设备，其中亲水性涂层是PVP涂层。

12.根据权利要求9-11任一项的无菌设备，使用辐射灭菌。

13.根据权利要求9-12任一项的无菌设备，其中亲水性聚合物是没有缓冲能力的亲水性聚合物。

14.根据权利要求9-13任一项的无菌设备，其中亲水性聚合物是在约pH4没有缓冲能力的亲水性聚合物。

15.根据权利要求9-14任一项的无菌设备，其中独立的缓冲剂具有至少一个在2.7至5之间的pK_a值。

16.根据权利要求9-15任一项的无菌设备，其中缓冲能力从pH4至pH7.4低于4mM。

17.使用辐射将包含亲水性涂层的医疗装置灭菌的方法，所述方法包括以下步骤：使具有这样涂层的医疗装置接触含水液体，用于湿润亲水性涂层，所述液体包含亲水性聚合物和独立的缓冲剂的溶液，并且通过使用足量的辐射将装置灭菌。

18.根据权利要求17的方法，其中所述装置是亲水性涂覆的导管。

19.根据权利要求17或18任一项的方法，其中所述亲水性涂层是PVP涂层。

20.根据权利要求17-19任一项的方法，其中所述亲水性聚合物是没有缓冲能力的亲水性聚合物。

21.根据权利要求17-20任一项的方法，其中所述亲水性聚合物是在约pH4没有缓冲能力的亲水性聚合物。

22.根据权利要求17-21任一项的方法，其中所述独立的缓冲剂具有至少一个在2.7至5之间的pK_a值。

23.根据权利要求17-22任一项的方法，其中缓冲能力从pH4至pH7.4低于4mM。