[发明专利]成像光学系统及成像用透镜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种成像光学系统及成像用透镜的制造方法。

背景技术

目前，在光学透镜的制造领域，正在进行对晶圆状的玻璃基板设置多个固化性树脂制的透镜部(制作所谓“晶圆透镜(wafer lens)”)、将该晶圆状的玻璃基板以每个透镜部裁断·片断化，将其一个一个作为成像用透镜来使用这样的尝试。近年来，作为应用其的技术，公开有对成像用透镜的玻璃基板形成IR(Infrared Rays，红外线)阻断涂层的例子(参照专利文献1)，记载的要旨是在玻璃基板的表背两面中的至少一侧的面形成IR阻断涂层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开2007/0024958号公报

发明内容

但是，根据专利文献1的手法，由在至少一侧的面形成IR阻断涂层的记载教导在两面形成IR阻断涂层，但没有提及关于本发明作为课题的基板的翘曲，对于有意识地应对该问题也未提及，由此可能因膜的应力玻璃基板发生翘曲弯曲。

因此，本发明的解决课题在于，提供一种可以抑制玻璃基板的翘曲弯曲的成像光学系统及成像用透镜的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明涉及的上述课题，可通过以下的手段来解决。

1.一种成像光学系统，其特征在于，其为具有在玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部的成像用透镜的成像光学系统，

具有至少1组以上的上述成像用透镜，

对上述玻璃基板的表背两面分别形成有IR阻断涂层。

2.如上述1所述的成像光学系统，其特征在于，

形成于上述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r1与形成于上述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r2的总膜厚比率r满足式(1)的条件。

0.9≤r(＝r1/r2)≤1.1...(1)

3.如上述1或2所述的成像光学系统，其特征在于，

上述IR阻断涂层为将多个由低折射率材料构成的低折射率层A和由高折射率材料构成的高折射率层B交替层叠而成的交替多层膜，

形成于上述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A1的总膜厚r(A1)与形成于所述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A2的总膜厚r(A2)的总膜厚比率r(A)满足式(2)的条件，并且，形成于上述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B1的总膜厚r(B1)与形成于上述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B2的总膜厚r(B2)的总膜厚比率r(B)满足式(3)的条件。

0.9≤r(A)(＝r(A1)/r(A2))≤1.1...(2)

0.9≤r(B)(＝r(B1)/r(B2))≤1.1...(3)

4.上述1～3中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于，

在上述成像用透镜的玻璃基板上，形成设置于上述透镜部的周边的固化性树脂制的周边部，使形成于所述玻璃基板的一侧的面的上述周边部的厚度为t1、使形成于所述玻璃基板的另一侧的面的上述周边部的厚度为t2，

使形成于上述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚为r1、使形成于上述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚为r2时，

满足式(4)或式(5)的条件。

t1＞t2，r1＜r2...(4)

t1＜t2，r1＞r2...(5)

5.如上述1～4中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于，

具有2组以上的上述成像用透镜，

上述成像用透镜中，对玻璃基板没有形成上述IR阻断涂层的上述成像用透镜配置于像面侧。

6.如上述1～5中的任一项所述的成像光学系统，其特征在于，

上述固化性树脂为光固化性树脂，

上述IR阻断涂层对波长365nm的光具有50％以上的透射率。

7.如上述6所述的成像光学系统，其特征在于，

上述光固化性树脂为丙烯酸类树脂或环氧树脂。

8.一种成像用透镜的制造方法，其特征在于，具备如下工序：

对上述玻璃基板的表背两面形成IR阻断涂层的工序、

在上述IR阻断涂层上实行硅烷偶联处理的工序、

在上述硅烷偶联处理后的上述IR阻断涂层上形成多个固化性树脂制的透镜部的工序、和

以每个上述透镜部将上述玻璃基板裁断的工序。

发明的效果

根据本发明的上述手段，可以提供一种可以抑制玻璃基板的翘曲弯曲的成像光学系统及成像用透镜的制造方法。