[发明专利]成像光学系统及成像用透镜的制造方法无效
| 申请号: | 200980115664.X | 申请日: | 2009-06-01 |
| 公开(公告)号: | CN102016654A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
| 发明(设计)人: | 德弘节夫 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B5/28;G02B13/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 贾成功 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像 光学系统 透镜 制造 方法 | ||
1.一种成像光学系统,其特征在于,其为具有在玻璃基板上形成了固化性树脂制的透镜部的成像用透镜的成像光学系统,
具有至少1组以上的所述成像用透镜,
对所述玻璃基板的表背两面分别形成有IR阻断涂层。
2.如权利要求1所述的成像光学系统,其特征在于,
形成于所述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r1与形成于所述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚r2的总膜厚比率r满足式(1)的条件:
0.9≤r(=r1/r2)≤1.1...(1)。
3.如权利要求1或2所述的成像光学系统,其特征在于,
所述IR阻断涂层为将多个由低折射率材料构成的低折射率层A和由高折射率材料构成的高折射率层B交替层叠了的交替多层膜,
形成于所述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A1的总膜厚r(A1)与形成于所述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的低折射率层A2的总膜厚r(A2)的总膜厚比率r(A)满足式(2)的条件,并且,形成于所述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B1的总膜厚r(B1)与形成于所述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的高折射率层B2的总膜厚r(B2)的总膜厚比率r(B)满足式(3)的条件:
0.9≤r(A)(=r(A1)/r(A2))≤1.1...(2)
0.9≤r(B)(=r(B1)/r(B2))≤1.1...(3)。
4.如权利要求1~3中的任一项所述的成像光学系统,其特征在于,
在所述成像用透镜的玻璃基板上,形成设置于所述透镜部的周边的固化性树脂制的周边部,使形成于所述玻璃基板的一侧的面的所述周边部的厚度为t1、使形成于所述玻璃基板的另一侧的面的所述周边部的厚度为t2,
使形成于所述玻璃基板的一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚为r1、使形成于所述玻璃基板的另一侧的面的IR阻断涂层的总膜厚为r2时,
满足式(4)或式(5)的条件:
t1>t2,r1<r2...(4)
t1<t2,r1>r2...(5)。
5.如权利要求1~4中的任一项所述的成像光学系统,其特征在于,
具有2组以上的所述成像用透镜,
在所述成像用透镜中,对玻璃基板没有形成所述IR阻断涂层的所述成像用透镜配置于像面侧。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的成像光学系统,其特征在于,
所述固化性树脂为光固化性树脂,
所述IR阻断涂层对波长365nm的光具有50%以上的透射率。
7.如权利要求6所述的成像光学系统,其特征在于,
所述光固化性树脂为丙烯酸类树脂或环氧树脂。
8.一种成像用透镜的制造方法,其特征在于,具备如下工序:
对玻璃基板的表背两面形成IR阻断涂层的工序、
在所述IR阻断涂层上实行硅烷偶联处理的工序、
在所述硅烷偶联处理后的所述IR阻断涂层上形成多个固化性树脂制的透镜部的工序、和
以每个所述透镜部将所述玻璃基板裁断的工序。
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