[发明专利]用于识别标签或被适配为有待识别的物品的读取装置、相关方法及系统有效
| 申请号: | 200980112773.6 | 申请日: | 2009-02-19 |
| 公开(公告)号: | CN101999127A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
| 发明(设计)人: | P·M·莫兰;A·P·伯登 | 申请(专利权)人: | 比尔凯科技新加坡有限公司 |
| 主分类号: | G06K7/015 | 分类号: | G06K7/015;G06K7/08;G06K7/10 |
| 代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 南毅宁;周建秋 |
| 地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 识别 标签 被适配 有待 物品 读取 装置 相关 方法 系统 | ||
1.一种用于识别标签或者被适配为有待识别的物品的读取装置,所述读取装置包括:
第一读取元件,该第一读取元件用于读取位于该标签或该被适配为有待识别的物品中的第一组的识别特征,其中该第一读取元件是磁光读取元件;以及
第二读取元件,该第二读取元件用于读取位于该标签或该被适配为有待识别的物品中的第二组的识别特征;
其中该读取装置被配置为使得从读取的第一组的识别特征中生成的第一信号以及通过读取该第二组的识别特征生成的第二信号被独立地用于导出用于识别该标签或该物品的第一签名和第二签名。
2.如权利要求1所述的读取装置,其中被用于该磁光读取的光是在该磁光读取元件中内部地反射的。
3.如权利要求1所述的读取装置,其中该磁光读取元件包括至少一个光处理单元以及至少一个磁光基片。
4.如权利要求3所述的读取装置,其中该至少一个光处理单元包括多个部件,这些部件包括:至少一个光学检测器、至少一个透镜、至少一个偏光器、以及至少一个光源。
5.如权利要求3所述的读取装置,其中该磁光基片包括一种层安排,该层安排包括:光学透明基片、第一涂敷层以及第二涂敷层。
6.如权利要求5所述的读取装置,其中该第一涂敷层是一个磁光薄膜或多个磁光薄膜。
7.如权利要求5或6所述的读取装置,其中该第二涂敷层是反射薄膜。
8.如权利要求5至7中任何一项所述的读取装置,其中该磁光基片进一步包括保护层。
9.如权利要求4至8中任何一项所述的读取装置,其中该光处理单元以及该磁光基片中的至少一些部件彼此相对具有固定的空间关系。
10.如权利要求3所述的读取装置,其中该磁光基片包括至少一个开口,该开口用于对该标签或该被适配为有待识别的物品上的多个识别特征和/或多个对齐标记的直接的光学读取。
11.如权利要求1至10中任何一项所述的读取装置,其中该第二读取元件是选自下组,其组成为:条形码扫描器、射频识别标签读取器、字符辨识读取器、光学图像捕获系统、高斯计、磁强计、荧光计、剩磁计以及发送接收器。
12.如权利要求3至12中任何一项所述的读取装置,其中该第一读取元件包括接合元件,该接合元件用于将该磁光基片定位于该第一组的识别特征的区域之上。
13.如权利要求12所述的读取装置,其中该接合元件实质上包围该磁光基片。
14.如权利要求12或13所述的读取装置,其中该接合元件在形状上是实质上与该标签或物品中的接合轨道互补,从而形成互锁装置。
15.如权利要求12至14中任何一项所述的读取装置,其中该接合元件被形成为腔或凹陷。
16.如权利要求15所述的读取装置,其中该凹陷具有的高度为至少大约50微米、至少大约150微米、至少大约200微米、或至少250微米。
17.如权利要求12至14中任何一项所述的读取装置,其中该接合元件被形成为突起。
18.如权利要求17所述的读取装置,其中该突起具有的高度为至少大约50微米、至少大约150微米、至少大约200微米、或至少250微米。
19.如权利要求12至18中任何一项所述的读取装置,其中该接合元件在截面上具有圆形的形状或多边形截面形状。
20.如权利要求1至19中任何一项所述的读取装置,其中至少该第一读取元件被适配为在与该标签或有待识别的物品进行接触时与该标签或有待识别的物品相符合。
21.如权利要求20所述的读取装置,其中该第一读取元件包括构造元件,当使该第一读取元件与该标签或有待识别的物品进行接触时,该构造元件协助至少该第一读取元件与该标签或有待识别的物品相符合。
22.如权利要求22所述的读取装置,其中该构造元件包括选自下组的至少一个成员,该组的组成为:弹簧、海绵、抽吸系统、液压系统、以及气压系统。
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