[发明专利]闭回路控制及等离子体掺杂制程中利用飞行时间离子侦测器的制程最佳化

权利要求书

1.一种利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，包括：

a.于一等离子体腔中产生一等离子体，该等离子体接近一平台，该平台承载一基板，该等离子体包括多个掺杂离子；

b.利用一偏压波形偏压该平台，该偏压波形具有一负电压，该负电压将该等离子体中的离子吸引至该基板，以进行等离子体掺杂；

c.利用一飞行时间离子侦测器量测该等离子体中的离子的一谱，其中该谱为离子重量的函数；

d.分析离子的该谱，该谱为离子重量的函数，以测定该等离子体中的至少一离子的一相对数量；以及

e.依据该谱的分析结果修改至少一等离子体掺杂参数。

2.根据权利要求1所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中量测离子的该谱的方法包括量测该等离子体中的离子飞越过一已知距离所需的时间，然后以离子的飞行时间比对出离子的种类。

3.根据权利要求1所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中分析离子的该谱的方法包括比较离子的该谱以及离子的一模型谱。

4.根据权利要求1所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括终止该等离子体掺杂制程。

5.根据权利要求1所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括修改偏压该平台的该偏压波形。

6.根据权利要求1所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括提供该基板一剂量修正。

7.一种利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，包括：

a.于一等离子体腔中产生一等离子体，该等离子体接近一平台，该平台承载一基板，该等离子体包括多个掺杂离子；

b.利用一偏压波形偏压该平台，该偏压波形具有一负电压，该负电压将该等离子体中的离子吸引至该基板，以进行等离子体掺杂；

c.利用一飞行时间离子侦测器量测该等离子体中的离子的一谱，其中该谱为离子重量的函数；

d.从离子的该谱判定一布植曲线，该谱为离子重量的函数；以及

e.依据该布植曲线修改至少一等离子体掺杂参数。

8.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中量测离子的该谱的方法包括量测该等离子体中的离子飞越过一已知距离所需的时间，然后以离子的飞行时间比对出离子的种类。

9.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中从离子的该谱判定一布植曲线的方法包括比较离子的该谱以及离子的一模型谱。

10.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中从离子的该谱判定一布植曲线的方法包括在该谱中判定离子的相对数量的比例。

11.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括终止该等离子体掺杂制程。

12.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括修改偏压该平台的该偏压波形。

13.根据权利要求7所述的利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，其中修改至少一等离子体掺杂参数包括提供该基板一剂量修正。

14.一种利用一飞行时间离子侦测器来控制等离子体掺杂制程的方法，包括：

a.于一等离子体腔中产生一等离子体，该等离子体接近一平台，该平台承载一基板，该等离子体包括多个掺杂离子；

b.利用一偏压波形偏压该平台，该偏压波形具有一负电压，该负电压将该等离子体中的离子吸引至该基板，以进行等离子体掺杂；

c.利用一飞行时间离子侦测器量测该等离子体中的离子的一谱，其中该谱为离子重量的函数；

d.利用一法拉第量测系统量测撞击该基板的离子总数；

e.从离子的该谱判定一布植曲线；

f.从离子总数与该布植曲线判定一积分剂量；以及

g.依据该积分剂量修改至少一等离子体掺杂参数。