[发明专利]真空吸嘴有效
| 申请号： | 200980106447.4 | 申请日： | 2009-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN101960940A | 公开（公告）日： | 2011-01-26 |
| 发明（设计）人： | 浜岛浩 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | H05K13/04 | 分类号： | H05K13/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空吸嘴，其包括在前端具有吸附面的基体以及贯通所述基体而与所述吸附面连通的吸引孔，其特征在于，
所述基体的至少包括所述吸附面的前端部由陶瓷构成，
在所述吸引孔的内表面形成有电阻比所述陶瓷的主成分的电阻小的多个突起。
2.如权利要求1所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述突起为半球状。
3.如权利要求1或2所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述突起的高度为30μm以下。
4.如权利要求1至3中任一项所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述突起的高度为吸引孔的孔径的10％以下。
5.如权利要求1至4中任一项所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述吸引孔的内表面的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)为0.5μm以下。
6.如权利要求1至5中任一项所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述吸引孔的内表面的表面粗糙度(最大高度Rmax)为0.6～5.5μm。
7.如权利要求1至6中任一项所述的真空吸嘴，其特征在于，
所述突起包含选自由氧化铁、氧化钛、氧化铬以及氧化钴构成的组中的至少一种。
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