[发明专利]微细构造的制作方法以及具备微细构造的基板无效
申请号: | 200980105337.6 | 申请日: | 2009-02-16 |
公开(公告)号: | CN101970341A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 江龙修;木下隆利;河田研治;堀田和利 | 申请(专利权)人: | 福吉米株式会社 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;B82B1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 崔幼平;杨楷 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微细 构造 制作方法 以及 具备 | ||
1.一种在基板上制作出微细构造的方法,其特征是,包括:
准备表面具有原子台阶的基板的工序;
通过将线状要素赋予基板上,使线状要素沿着基板表面的原子台阶延伸地取向,从而在基板上形成由沿着原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造的工序。
2.如权利要求1所述的方法,其特征是,将线状要素赋予基板上的工序是通过将能够相互会合而形成线状要素的单位要素赋予基板上而进行的。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征是,至少在原子台阶端,基板表面是具有极性的。
4.如权利要求1~3中任一项所述的方法,其特征是,上述线状要素具有同样的极性。
5.如权利要求1~4中任一项所述的方法,其特征是,上述原子台阶是相互平行的直线状的原子台阶中的一个。
6.一种基板,其特征是,表面具有原子台阶,并且在基板上设有由沿着原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造。
7.如权利要求6所述的基板,其特征是,至少在原子台阶端,基板表面是具有极性的。
8.如权利要求6或7所述的方法,其特征是,上述线状要素具有同样的极性。
9.如权利要求6~8中任一项所述的方法,其特征是,上述原子台阶是相互平行的直线状的原子台阶中的一个。
10.一种在基板表面上制作出微细构造的方法,其特征是,包括:
准备表面具有原子台阶的基板的工序;
通过将线状要素赋予基板上,使线状要素在基板上沿着基板表面的原子台阶延伸地取向的工序;
通过相对于在其上取向有线状要素的基板进行离子照射,在基板表面产生晶格缺陷层的工序,被线状要素掩盖的基板表面的第1部分与未被线状要素掩盖的基板表面的第2部分相比,因离子照射所产生的晶格缺陷层的厚度减小;
通过对离子照射后的基板表面进行研磨而除去因离子照射而在基板表面上产生的晶格缺陷层的工序,通过在基板表面的上述第1部分处与上述第2部分处晶格缺陷层的厚度不同,在研磨后的基板表面得到由与上述第1部分相对应的凸条和与上述第2部分相对应的凹条构成的微细构造。
11.如权利要求10所述的方法,其特征是,将线状要素赋予基板上的工序是通过将能够相互会合而形成线状要素的单位要素赋予基板上而进行的。
12.如权利要求10或11所述的方法,其特征是,至少在原子台阶端,基板表面是具有极性的。
13.如权利要求10~12中任一项所述的方法,其特征是,上述线状要素具有同样的极性。
14.如权利要求10~13中任一项所述的方法,其特征是,上述原子台阶是相互平行的直线状的原子台阶中的一个。
15.一种基板,其特征是,在基板表面的至少1μ见方的区域的整体上具备重复的宽度为2~20nm的凸条。
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