[实用新型]一种提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置无效

专利信息
申请号: 200920282854.8 申请日: 2009-12-24
公开(公告)号: CN201628686U 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 胡晓斌;张树龙 申请(专利权)人: 江苏天瑞仪器股份有限公司
主分类号: G01N21/73 分类号: G01N21/73
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 楼高潮
地址: 215000 江苏省昆*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 icp 光谱仪 系统 稳定性 废液 排出 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种ICP光谱仪,特别涉及一种提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置。

背景技术

ICP光谱仪是一种精密的原子发射光谱仪器,主要组成部分包括电感耦合等离子体发生器(即ICP光源)、进样系统、分光系统、光电转换系统、信号处理等几部分。其中,电感耦合等离子体发生器产生等离子体焰炬,焰炬的高温能够激发待分析的样品元素的原子,从而产生该元素的特征分析线;进样系统用于将待测的样品溶液形成气溶胶,并将该气溶胶送入等离子体焰炬中去激发;分光系统则将等离子体焰炬发出的特征分析线的波长分离开来并定性其波长;光电转换系统则将分析线的光强信号转换为电信号;信号处理包括光电转换信号的放大、滤波、AD转换、计算等等。

进样系统式ICP光谱仪中非常重要的一个系统,进样系统的稳定性以及重复性直接影响ICP光谱仪整机的稳定性和重复性。进样系统的主要功能就是将待测的样品溶液通过雾化器和雾化室形成混合均已的气溶胶,然后通过雾化室将该气溶胶导入炬管的中心通道,进行激发,同时会在雾化室中将大的雾滴收集起来形成废液。通常的使用中,雾化室中形成的废液一般通过水封瓶等装置排出到废液收集瓶中。传统的水封瓶等废液排出装置是这样工作的:在水封瓶内存在一定量的液体,以达到将雾化室与外界空气隔离的目的。随着废液一点点排出,水封瓶内的液面会慢慢上升。当液面上升到水封瓶上端的废液排出口时,多余的液体会经过废液排出口流出,从而使水封瓶内的液面始终保持在废液排出口的下断面处,既保证隔绝空气,又能随时排出多余的废液。但是在实际的使用中发现,当水封瓶内废液的液面超过水封瓶上端的废液排出口时,由于废液的表面张力的存在,高出排出口部分的废液并不马上顺着排出口流走,而是继续积累,液面继续上升,当液面上升到一定程度后,液面高度差形成的压力差可以克服表面张力时,高出排出口这部分废液才一下子全部流走。这样就会产生废液排出的脉动效果。这个脉动效果会直接影响雾化室出口处的气溶胶的流速,进而直接影响气溶胶进样的稳定性,造成分析结果的稳定性差。

于是,研制一种新型的废液排出装置已成为本领域中亟待解决的技术问题。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足,本实用新型要解决的技术问题是提供一种新的提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置,该废液排出装置重新设计了雾化室废液的排出方式,不通过水封瓶上端的废液排出口排出废液,而采用蠕动泵来主动排出废液。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

一种提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置,其包括依次连接的蠕动泵、软管、水封瓶以及连接管。

优选的,所述水封瓶上设有废液排放口。

上述方案具有如下有益效果:上述废液排出装置,通过调节蠕动泵的转向和转速,使得废液的排出速度与雾化室生成废液的速度相适应,以使水封瓶中的废液液面高度保持不变,不会发生脉动式排液的现象,有效地消除了由于脉动排液造成的气溶胶流速波动的现象,改善了进样系统的稳定性。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图作详细说明。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细的介绍。

如图1所示,一种提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置,其包括依次连接的蠕动泵1、连接软管2、水封瓶3以及连接管5,连接管5与雾化室8连接,优选的,水封瓶3上设有废液排放口4。

该废液排出装置在工作时,待测样品通过雾化器9上的入口6进入雾化室8,产生的气溶胶通过雾化室8上的出口10排出,通过调节蠕动泵的转向和转速,使得废液的排出速度与雾化室生成废液的速度相适应,以使水封瓶中的废液液面高度保持不变,不会发生脉动式排液的现象。

以上对本实用新型实施例所提供的一种提高ICP光谱仪进样系统稳定性的废液排出装置进行了详细介绍,对于本领域的一般技术人员,依据本实用新型实施例的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制,凡依本实用新型设计思想所做的任何改变都在本实用新型的保护范围之内。

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