[实用新型]硅片喷淋清洗系统

权利要求书

1.一种硅片喷淋清洗系统，包括喷淋槽体，所述喷淋槽体具有进槽口与出槽口，所述喷淋槽体内设置有用于输送硅片的输送辊轮组，其特征是：所述输送辊轮组的上方和下方分别设有用于喷射清洗硅片的多个上喷头和下喷头。

2.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：所述多个上喷头和下喷头对称地分布在所述输送辊轮组的上下两侧。

3.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：所述喷淋槽体内的液体平面低于所述输送辊轮组上的硅片所在水平面。

4.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：在硅片传输方向上的所述两相邻喷头之间的输送辊轮组仅包括下辊轮。

5.如上述任一权利要求所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：在靠近所述进槽口和出槽口处的输送辊轮组仅包括下辊轮。

6.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：所述喷淋槽体内的液体为氢氟酸。

7.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：所述输送辊轮组位于同一水平面上。

8.如权利要求1所述的硅片喷淋清洗系统，其特征是：所述输送辊轮组在进槽口与出槽口处沿过渡斜面排列。