[实用新型]一种基于阵列检测器的双光束探测系统有效

专利信息
申请号: 200920222316.X 申请日: 2009-09-01
公开(公告)号: CN201540159U 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 金霞;丁志田 申请(专利权)人: 北京普析通用仪器有限责任公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 101200*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 阵列 检测器 光束 探测 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种双光束探测系统,属于光谱分析仪器领域。

背景技术

光谱仪器的稳定性是仪器的重要指标,尤其是受光源的影响,其随温度、环境条件的变化会使仪器的稳定性、信噪比等指标变差。一般单色器类光谱仪解决的方法是采用双光束系统,即在单光束的光谱仪上,用分光技术将光源的辐射分为样品光与参比光,再通过电器系统处理来抵消光源波动引起的误差。双光束系统的稳定性、光度准确度及基线漂移等指标都优越于单光束系统。

不同于上述单色器类光谱仪的是一种新型的阵列分光器类光谱仪,它因为无需扫描光栅,体积小,使用阵列检测器直接接收分光系统后的全谱,提高了仪器的测量速度。但因为这种系统的光谱阵列特性,不能简单的用两只阵列检测器进行双光束补偿,所以大部分仍采用单光束系统,光源的扰动及漂移等因素将会影响仪器的稳定性。

实用新型内容

本实用新型为解决现有的阵列光谱仪存在的稳定性较差的问题,提供了一种基于阵列检测器的双光束探测系统,它包括分光系统、入射光纤和阵列检测器,分光系统用于将部分输入光作为样品光进行分光,并将按波长排列的阵列光谱输出给阵列检测器,入射光纤用于直接耦合部分输入光作为参比光输出给阵列检测器,阵列检测器根据其阵列特性将像元分区,用于同时接收阵列样品光谱、参比光及暗电流等信号,再经过电器系统的处理实现双光束阵列检测系统。

本实用新型通过同一个阵列检测器对两束光进行检测,避免了由不同检测器差异给系统带来的误差,提高了光谱仪的稳定性。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图;

图2是具有不同应用功能的光照射在阵列检测器3上的示意图。

具体实施方式

具体实施方式一:参见图1,本实施方式由分光系统1、入射光纤2和阵列检测器3组成,分光系统1用于将部分输入光作为样品光进行分光,并将按波长排列的阵列光谱输出给阵列检测器3,入射光纤2用于直接耦合部分输入光作为参比光输出给阵列检测器3,阵列检测器3根据其阵列特性将像元分区,用于同时接收阵列样品光谱、参比光及暗电流等信号。

本具体实施方式提供的基于阵列检测器3的双光束探测系统,是在保证接收全谱的情况下,利用阵列检测器3的阵列特性,合理分配阵列检测器3的探测区域,将不同应用功能的光通过不同探测通道分段接收,从而达到双光束检测的目的。双光束系统中的参比光采用入射光纤2引入探测系统,将入射光纤2设置在光源4的附近直接接收光源辐射,通过光纤传导直接照射到阵列检测器3的一段区域进行探测。样品光也是由光源4发出的,直接经过分光系统1后由阵列检测器3的另一段区域接收。在阵列检测器3上将某段像元区域进行遮挡或涂黑处理,使该部分的探测情况为仪器电器系统产生的暗电流信号。本系统实现起来简单,不会增加仪器的成本,只使用一个检测器还能够避免由不同检测器差异给系统带来的误差。

在本具体实施方式中,可以采用具有N个像元素的检测器作为阵列检测器3,本具体实施方式以如1024像素的检测器为例进行说明,如图1所示,其中的样品光是由光源4的辐射光进入分光系统1后通过阵列检测器3接收的光,产生阵列光谱的分光系统1可以是平场凹面光栅系统或平面光栅系统。参比光也由光源4发出,通过入射光纤2由光源辐射引出直接进入阵列检测器3进行探测,根据仪器使用范围可选择不同波长范围的光纤,材料不限于石英、玻璃、塑料或其他能实现光纤耦合传导功能的物质。

如图2所示,其中阵列检测器3可以是二极管阵列检测器或CCD阵列检测器,使用的波长范围为λ1~λ2(单位:nm),由分光系统1计算得到两波长之间的线性长度,该线性长度应小于阵列检测器3接收面的长度,或选择更大面积的阵列检测器3。在阵列检测器3上选择一段n1个像元素对应λ1与λ2之间的光谱带进行样品光的光谱探测。选择n2个像元素进行挡光处理作为暗电流信号区域。入射光纤2的出射光位置选择在另一段有效像元n3上。其中n1、n2和n3的三个像元段之间互不重叠各自独立,三者在阵列检测器3上的位置在无任何相互干扰的前提下可以任意排列。阵列检测器3接收所有信号后通过电器系统处理最终实现双光束阵列检测,达到提高仪器的稳定性等指标的目的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京普析通用仪器有限责任公司,未经北京普析通用仪器有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920222316.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top