[实用新型]一种适用于氧化铁的压滤机无效
| 申请号: | 200920191181.5 | 申请日: | 2009-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN201482271U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
| 发明(设计)人: | 孙雪虹;宋惠杰 | 申请(专利权)人: | 杭州恒达化工机械厂 |
| 主分类号: | B01D25/21 | 分类号: | B01D25/21 |
| 代理公司: | 浙江翔隆专利事务所 33206 | 代理人: | 戴晓翔 |
| 地址: | 311200 浙江省杭州市余杭区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 氧化铁 压滤 | ||
1.一种适用于氧化铁的压滤机,包括机架(1),设于机架(1)上的压滤机主体,和与压滤机主体相配合的机电控制系统,所述的压滤机包括驱动油缸和设有滤板的自动拉板,还包括设于机架(1)上的输送机构,所述的输送机构包括设于机架(1)上的输送带(2),与输送带(2)配合的动力传动部件,所述的动力传动部件包括电机,设有电机上的传动轮,与传动轮相配合的输出轮,传动轮和输送轮通过传送带相配合,其特征在于在所述机架(1)和输送带(2)之间设有硬质板(3),在所述机架(1)上还设有与所述硬质板(3)至少一端相配合的对辊(25),所述对辊为至少两根辊筒拼接的中部下凹的传动辊筒,其拼接宽度与输送带(2)宽度相适应。
2.根据权利要求1所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述的机架包括下机架、安装于下机架上的上机架、与下机架配合的阶梯(101),所述的下机架上设有操作工作台(102),该操作工作台(102)与所述的阶梯(101)相配合,在所述的下机架和上机架之间设有压滤机主体安装梁(103);所述的输送带为皮带,所述的机架上还设有与输送带(2)接触配合的刮件(4)。
3.根据权利要求2所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述的下机架包括至少四根下机架脚(104),设置在这些下机架脚上面的下机架横梁(105),并在下机架脚(104)和下机架横梁(105)之间设有加强斜档A(106),以及在相邻下机架脚(104)之间设有加强横档(107);所述的上机架包括与每根下机脚(104)相配合的至少四根上机架脚(108),设置在这些上机架脚(108)上面的上机横梁(109),并在上机架脚(108)和上机架横梁(109)之间设有加强斜档B(110)。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述的机架(1)上设有与输送带(2)相配合的输送带张力调节部件,该张力调节部件包括分别设于一端机架(1)两侧的两调节座甲(5),与两调节座甲分别可调配合的两安装臂甲(6),与两安装臂甲(6)相连接的传动辊(7);该张力调节部件还包括分别设于另一端机架(1)两侧的两调节座乙(8),两调节座乙(8)上设有腰形调节槽(9),该调节座乙(8)通过穿过腰形调节槽(9)的连接件连接在机架上;所述的两调节座乙(8)上设有与动力输出辊(10),所述的输出轮设置在该输出辊(10)上。
5.根据权利要求4所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述的两调节座乙(8)上分别设有调节定位凸起(17),所述机架(1)上还设有与两调节座乙(8)相配合的调节定位部件,该调节定位部件包括固定在机架(1)上的调节定位基座(18),设有该基座上的与调节定位凸起(17)相配合的调节定位件(19)。
6.根据权利要求5所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述的张力调节部件还包括可调的连接在机架(1)上的两调节座丙(11)和与刮件(4)配合的刮件调节部件;所述的两调节座丙(11)上分别设有导向辊座(12),两导向辊座上设有导向辊(13)。
7.根据权利要求1或2或3所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述机架(1)上设有安装机电控制系统的基座,基座包括固定在油缸座(36)上的液压站支架(34)和电气控制系统支架(35),液压站(32)和电气控制系统(33)分别安装在液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)上;所述的液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)焊接在油缸座(36)上;所述的液压站(32)和电气控制系统(33)通过连接件分别安装在液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)上。
8.根据权利要求6所述的一种适用于氧化铁的压滤机,其特征在于所述机架(1)上设有安装机电控制系统的基座,基座包括固定在油缸座(36)上的液压站支架(34)和电气控制系统支架(35),液压站(32)和电气控制系统(33)分别安装在液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)上;所述的液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)焊接在油缸座(36)上;所述的液压站(32)和电气控制系统(33)通过连接件分别安装在液压站支架(34)和电气控制系统支架(35)上。
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