[实用新型]一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。

背景技术

目前，国内在金属薄板带表面进行连续处理都采用热涂的形式，采用这种方法具有以下缺点：(1)涂层材料熔点温度低，不能涂熔点高的材料；(2)涂层厚，并且只能双面同时涂；(3)只能涂单一的材料；(4)涂层色泽、均匀性、附着力较差。生产的钢带只能用于低端市场。为弥补热涂工艺的不足，此前国内又开发了间歇式真空电子束蒸发、真空磁控溅射、真空多弧离子等镀膜设备，但这类设备存在以下缺点：(1)抽真空时间、装卸板带占用的时间比较长，每镀完一卷要打开真空室门装卸带卷，生产效率低，不适合工业连续生产；(2)每周期镀膜参数难以保证一致，产品质量一致性差；(3)磁控靶或多弧源在暴露大气后有一定程度的氧化和污染，影响膜层质量。

而国外钢带表面采用真空条件下的镀膜技术发展较早，已经比较成熟。比较常用的是真空条件下大功率电子束蒸发镀膜技术。进口此类设备价格非常昂贵，而随着我国国民经济的发展，对钢带真空镀膜产品的需求量增长很大，因此，急需开发此类设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足，提供一种用于金属薄板带在真空条件下连续进行表面镀膜的装置，在金属薄板带表面采用真空条件下物理气相沉积进行改性处理的装置。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜、膜层厚度可独立进行控制、膜层均匀致密、附着力强、适合工业化生产。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)

所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。

所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系(10-6-1)；在导轨(10-6-5)上设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱动装置(10-6-3)设于活动辊系(10-6-2)上。

所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通。室体中间位置通过2至4套密封辊装置把室体分隔成三至五部分，从进料C低真空室，20b为从出料端，开始每部分真空度有一个阶梯形的降低，经过A低真空室20a、C低真空室20b后真空度可达到5Pa以下。室体根据制造需要，可做成整体或分两件。