[实用新型]一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置

权利要求书

1.一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；1-3个A低真空室(20a)，1-3个离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，1-5个高真空室(50)，1-5个镀膜室(60)，1-3个A低真空室(20b)与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。

2.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的开卷机组(10)包括：上卷滚轮(10-1)，开卷滚轮(10-2)，在上卷滚轮(10-1)与开卷滚轮(10-2)的前方设有切头(10-3)、焊接(10-4)；在1#S辊(10-5)和2#S辊(10-7)之间设有入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)；在2#S辊(10-7)之后设有清洗系统(10-8)，热风干燥(10-9)。

3.如权利要求2所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的入口金属薄板带(1)张紧轮系统(10-6)包括有固定辊系(10-6-1)；在导轨(10-6-5)上设有导向轮(10-6-4)，导向轮(10-6-4)与活动辊系(10-6-2)连接，驱动装置(10-6-3)设于活动辊系(10-6-2)上。

4.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20-1)，其内设有隔板(20-1-1)将室体(20-1)分隔成2-6个真空室；隔板(20-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20-1)的入口处或出口处或室体(20-1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20-2)，动力驱动机构(20-3)设于密封输送辊装置(20-2)上；室体(20-1)的上部设有上盖(20-4)，其间设有上盖密封装置(20-6)，下部设有机架(20-5)；室体连接处设有密封装置(20-7)；室体(20-1)内与滑阀泵机组(90-1、90-2)、罗茨泵(90-3)相连通。

5.如权利要求4所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的密封输送辊装置(20-2)包括相互平行的两个橡胶辊(20-2-3)支撑于两端的轴承座(20-2-5)上，传动齿轮(20-2-1)分别设于两个橡胶辊(20-2-3)的两端，在橡胶辊(20-2-3)轴的一端连接有动力驱动机构(20-3)；在橡胶辊(20-2-3)轴的两端设有弹簧(20-2-2)，密封板(20-2-4)设于橡胶辊(20-2-3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20-2-6)与室体连接的联结座(20-2-7)，其上设有弹簧片(20-2-8)，将塑料板(20-2-9)压紧在两个橡胶辊(20-2-3)上。

6.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的离子处理室(30)包括有室体(30-1)，其内设有隔板(30-1-1)将室体(30-1)分隔成2-4个真空室；在室体(30-1)的两端及隔板(30-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(30-1)内设有高压离子处理系统(30-2)；在室体(30-1)内设有布气系统(30-3)；室体(30-1)的上部设有上盖(30-4)，其间设有上盖密封装置(30-7)，中部设有观察窗(30-5)，下部设有机架(30-6)；室体连接处设有密封装置(30-8)；室体(30-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-4)相连通。

7.如权利要求1所述的金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，其特征在于：所述的B低真空室(40)包括有室体(40-1)，其内设有隔板(40-1-1)将室体(40-1)分隔成2-4个真空室；在室体(40-1)的两端及隔板(40-1-1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；室体(40-1)的上部设有上盖(40-2)，其间设有上盖密封装置(40-3)，中部设有观察窗(40-5)，下部设有机架(40-6)；室体连接处设有密封装置(40-4)；室体(40-1)内与滑阀泵机组、罗茨泵(90-5)相连通。