[实用新型]一种带吸尘系统的刻膜机有效
| 申请号： | 200920160204.6 | 申请日： | 2009-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN201490217U | 公开（公告）日： | 2010-05-26 |
| 发明（设计）人： | 何成鹏 | 申请（专利权）人： | 武汉三工光电设备制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/20 | 分类号： | H01L31/20;A47L5/20;A47L7/00;B23K26/36 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 430223 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸尘 系统 刻膜机 | ||
1.一种带吸尘系统的刻膜机，包括龙门钢架(7)，与所述龙门钢架(7)相连的激光头(8)，与所述激光头(8)相连的分光箱(9)，位于所述分光箱(9)下方的非晶硅电池(2)，所述非晶硅电池(2)设置于超净工作台(3)之上，其特征在于，所述带吸尘系统的刻膜机还包括吸尘系统，所述吸尘系统与所述超净工作台(3)相连接。
2.根据权利要求1所述的带吸尘系统的刻膜机，其特征在于，所述吸尘系统包括离子棒(13)、吸尘风道管(4)、吸尘口(12)、吸风风箱(10)和出风口(11)，所述离子棒(13)设于吸尘风道管(4)侧面，所述吸尘风道管(4)横贯于所述超净工作台(3)，所述吸风风箱(10)与所述吸尘风道管(4)相连，所述出风口(11)设置于所述吸风风箱(10)的底部，所述的吸尘口(12)位于激光光束(1)正下方。
3.根据权利要求2所述的带吸尘系统的刻膜机，其特征在于，所述离子棒包括两个电极针。
4.根据权利要求2所述的带吸尘系统的刻膜机，其特征在于，所述吸尘风道管(4)靠近所述非晶硅电池(2)的管壁上具有两个吸尘口(12)。
5.根据权利要求4所述的带吸尘系统的刻膜机，其特征在于，所述吸尘口(12)的数量和所述分光箱(9)射出的激光光束(1)的数量相等。
6.根据权利要求4所述的带吸尘系统的刻膜机，其特征在于，所述吸尘口(12)的位置和所述分光箱(9)射出的激光光束(1)是一一对应的。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
