[实用新型]曝光机

说明书

技术领域

本实用新型有关一种曝光机，尤指一种较不会产生聚热现象，且相对可以降低设备体积及成本的曝光机结构。

背景技术

按，一般印刷电路板或半导体芯片在进行曝光显影制程时，先在被加工物表面上涂上一层光阻，再藉由光源的照射将原稿上的电路布线图案映像至被加工物表面的光阻层上，以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂来将被光源照射过的光阻或未经曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成对应于原稿的线路布局。

其中，用以执行曝光显影加工制程的曝光机基本结构如图1所示，主要在以机壳11构成一曝光室12，以及设有一可相对进出曝光室12的曝光平台13，而且至少在该曝光室12内部相对应于曝光平台13的上方或下方位置，设有一光源组14；请同时参照图2所示，该曝光平台13为一供放置被加工物20与原稿(图略)的透明平台，整体曝光平台13并藉由一组线性滑轨15进出曝光室12。

该曝光平台13连同被加工物及原稿进入曝光室12至定位之后，一般必须在曝光室12内部停留一段时间(约3～5秒不等)使被加工物接受光源组14的曝光光源照射，待完成曝光之后再由曝光平台13将被加工物送出。

由于，一般习用曝光机多采用曝光平台13停滞在曝光室12内部的方式进行曝光作业，因此该光源组14并必须具有大量采用数组配置方式的灯泡141，方得以形成足以涵盖整个曝光平台13的平行光源；然而，在大量灯泡141同时运作下，将使机壳11内部产生严重的聚热现象，需另外用水冷系统散热，致使设备成本偏高。

另有一种习用曝光机透过复眼装置将灯泡的光线修正为所需的平行光及面积大小，其动作方式乃让光源灯泡透过椭圆镜将光线利用一组第一反射镜投向复眼装置使其光线均匀化，再利用一组第二反射镜将光线改变前进方向，最后利用一组凸透镜将光线修正为所需的平行光及面积大小，进而投射出所须的曝光光源，并藉以减少灯泡的数量。

然而，如次此的设计将使整体曝光机的结构趋于复杂，且整体曝光机的体机亦相对更趋庞大；尤其，必须使用大瓦数的灯泡，一般大瓦数灯泡的寿命相当短，不但增加灯泡的更换频率，无形的中生产成本亦相对增加。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型所解决的技术问题即在提供一种较不会产生聚热现象，而且相对可以降低设备体积及成本的曝光机结构。

为达上揭目的，本实用新型的曝光机在一机台上设有至少一曝光平台，以及设有一输送机组用以带动该至少一曝光平台相对进出机台的曝光室，该曝光室内部至少在相对应于该曝光平台的移动行程上方或下方位置设有一曝光光源组，在该曝光光源组外部有一出光罩；另外，设有一组控制电路供设定、整合该输送机组与该曝光光源组以及该出光罩的运作。

其中，该出光罩在其相对朝向该曝光平台移动行程的部位设有一长条状的透光槽，另设有一活动遮光板控制该透光槽开启与否，待曝光光源组的光源(本实施例为灯泡)启动时，其光源可透过该出光罩的透光槽向外照射，使产生朝向曝光平台移动行程照射的条状光源；再配合输送机组带动该曝光平台以预定速度与该出光罩相对位移的方式接受条状光源的照射，进而使该曝光平台上的被加工物完成曝光显影。

具体而言，本实用新型的曝光机具有下列功效：

1.用以产生曝光效果的光源为条状光源，而非涵盖整个曝光平台的大面积光源，故可大幅减少曝光光源组的灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，以及相对降低设备成本。

2.该控制电路可在曝光平台接受条状光源照射时，再行调升曝光光源组的功率，故可相对降低曝光室的聚热现象。

3.整体曝光机尤适合采用连续循环输送的方式，让曝光平台依序通过曝光室，然而可藉以提升曝光显影制程的加工产能。

附图说明

图1为一习用曝光机的结构剖视图；

图2为一习用曝光机的曝光平台外观立体图；

图3为本实用新型的曝光机外观立体图；

图4为本实用新型曝光机的曝光室内部结构立体图；

图5为本实用新型中设于该曝光平台移动行程上方位置的曝光光源组外观结构图；

图6为本实用新型中设于该曝光平台移动行程上方位置的曝光光源组放大示意图；

图7为本实用新型中设于该曝光平台移动行程下方位置的曝光光源组及出光罩的外观结构图；

图8为本实用新型中设于该曝光平台移动行程下方位置的曝光光源组及出光罩的放大示意图；

图9为本实用新型中设于该曝光平台移动行程下方位置的出光罩结构分解图；